二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Chamber for P5000 #9204032 待售
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ID: 9204032
晶圓大小: 6"
6"
Stand-alone
Pneumatic manifold P/N: 0010-09263
Process: Oxide etch (CF4 / C2F6).
AMAT P5000反應器是一種用於各種半導體沈積過程的源沈積室.它是市場上用途最廣泛、用戶友好的沈積室之一。P5000是尋找一個可靠高效的機器優化厚度、均勻性和控制膜性能的絕佳選擇。P5000先進的工藝控制提供了卓越的工藝穩定性、工藝可重復性以及對結構和組成膜性能的卓越控制。它具有一個直接驅動油門(DDT)工藝頭,允許在沈積過程中基板的精確運動來回。這樣可以確保整個晶片的均勻性和一致的薄膜厚度。該P5000有一個內置的氣體輸送設備,能夠支撐多達3種不同的氣體,每種氣體都有自己的專用流量計。該系統允許對氣體進行精確控制和混合,從而實現精確的過程控制,從而產生高質量的薄膜。此外,P5000的設計目的是確保室內的汙染水平通過其自含的過濾裝置保持在最低限度,該裝置在室內的任何潛在顆粒到達基板之前將其過濾掉。該P5000還提供了許多高級安全功能,包括獨特的板載診斷(OBD)機器。該工具持續監控腔室和電氣組件,並提供詳細的反饋和實時處理數據、警報和報告。該P5000因其性能、可靠性和用戶友好界面而成為線路反應堆的頂端。不僅P5000符合工藝要求,而且可以用於生長膠片以滿足多種應用,這使得它成為各種用戶的絕佳選擇。應當指出,P5000應用於通風良好的地區,因為提高工藝效率可能會產生更多的副產品和排放。
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