二手 AMAT / APPLIED MATERIALS CPI-VMO Chamber Endura PVD #9214657 待售

看起來這件物品已經賣了。檢查下面的類似產品或與我們聯系,我們經驗豐富的團隊將為您找到它。

ID: 9214657
晶圓大小: 12"
優質的: 2006
12" Includes: Make / Model / Description CTI CRYOGENICS / P300 / On-board cryopump AMAT/APPLIED MATERIALS / PVD / Controller GRANVILLE-PHILLIPS / 352 / Gauge & controller - / - / Machine controller SANYO DENKI / - / PM Driver - / 0010-04974 / Remote AC box - / 0100-00567 / Gas box distribution PCB - / - / CDN 396 Card - / - / CDN 391 Card - / - / PVD/IMP Chamber interlock card 2006 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS CPI-VMO Chamber Endura PVD是一種用於濺射、蒸發、RTP、蝕刻和離子植入應用的高性能物理氣相沈積(PVD)工具。該設備允許在一個自動腔室中進行多用途處理,提供無與倫比的工藝可重復性和大晶圓區域上層厚的可重復均勻性。此工具專為高級材料開發和過程分析而設計。AMAT CPI-VMO Chamber Endura PVD包括VMO Magnetron源、多區敏感器和多區隔熱板作為標配。VMO Magnetron電源是由高壓高頻交流電源驅動的單端高速率濺射電源。VMO Magnetron源通過利用介質層在長期沈積過程中進行低輸入功率操作,在晶片區域上提供均勻的濺射速率。多區感應器設計為有選擇地加熱或冷卻目標區域,以防止反向散射或後濺射。此外,多區感應器還具有可調節的壓力平衡齒輪,有助於過程控制和均勻加熱。APPLICED MATERIALS CPI-VMO Chamber Endura PVD還包括用於改進等離子體密封的多區隔熱板以及在更寬的工藝窗口上均勻的沈積速率。多區隔熱板具有可調擋板和反應堆壁保護功能,可精確控制刀具內部的沈積通量。此外,CPI-VMO Chamber Endura PVD包括一個先進的、實時的、具有多變量過程分析的自動化控制系統。實時監控和無紙化TQM單元實時提供流程性能反饋。機載強大的控制機還具有過程建模、守門員質量保證工具、自動微調優化等特點,可實時優化過程。AMAT/APPLICED MATERIALS CPI-VMO Chamber Endura PVD是為可靠性和長期性能而設計的,並在今後幾年進行濺射。該工具具有獨特的特性和技術組合,可快速高效地制作高質量的影片。AMAT CPI-VMO Chamber Endura PVD是那些尋求長期、可靠、節能的生產和分析需求PVD解決方案的人的理想選擇。
還沒有評論