二手 AMAT / APPLIED MATERIALS CVD Producer #9013333 待售
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ID: 9013333
APPLIED MATERIALS CVD Producer Split tool with (2) twin BPSG chambers, 8"
Wafer size & type : 200mm, jmf ( no smif interface )
Chamber position : ch#a & ch#b
Manometer : 20/1000torr
Rps : mks
Electrical information : 208v, 240a, 60hz
Monitor : stand alone & through the wall
Mainframe information:
Mainframe type : shrinkage
Robot : vhp dual robot
Loadlock cassette : manual 2 cassette
Ozone generator : ax8403
Loadlock pump : ipx100
Gas delivery:
Mfc : unit 8161
Valve : fujikin 5 ra max
Filter : millipore
Transducer : mks w/o display
Regulator : veriflo
Single line drop : yes
Gas line feed : bottom feed
System cabinet exhaust : bottom
Gas pallet ( ch#a & ch#b ):
O2 20slm ufc8161
Nf3 3 slm ufc8161
Ar 5 slm ufc8161
He 20slm ufc8161
N2 20slm ufc8161
Teos 4000 lf-410a-evd
Teb 500 lf-310a-evd
Tepo 250 lf-310a-evd
2000 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS CVD Producer是一種化學氣相沈積（CVD）反應器，用於在多種底物上沈積薄膜。作為高通量沈積設備,AMAT CVD Producer提供卓越的一致性、高速沈積和精確的配方控制,以及較低的擁有成本。APPLIED MATERIALS CVD Producer是由真空室、氣體輸送單元和熱源組成的多室系統。真空室設計為密封環境，允許薄膜沈積而不會受到幹擾或汙染。氣體輸送機包括質量流量控制器和閥門，以提供對過程氣體成分的精確控制。熱源由一組高壓電極和石墨敏感器組成，用於在基板上產生均勻的溫度。沈積過程從疏散反應堆室開始。一旦壓力達到所需的水平，就引入並加熱工藝氣體。這導致發生反應，導致沈積到底物上。反應的均勻性和速度可以通過調整過程的流量來控制。氣體和感受器的運動。此外,CVD Producer還具有精確的配方控制,以實現過程優化。AMAT/APPLIED MATERIALS CVD生產商被用於多個行業，包括學術研究、生物技術、半導體和光伏制造以及顯示器生產。適用於先進包裝工藝中用於鈍化層的氧化矽和氮化矽等多種材料，以及消費電子設備中常用的「黑金石」硝基抗反射塗料。此外，其他應用還包括電介質的沈積，如二氧化矽、氮化矽和金屬，例如銅和鎢等。AMAT CVD Producer是傳統系統的經濟高效替代品,因為它具有快速的沈積速率、精確的控制和高通量的能力。此外,它的模塊化設計允許簡單的設置和操作,而且其低擁有成本使其成為預算緊張的用戶的一個有吸引力的選擇。最後，它與多種材料的兼容性使得它成為生產高質量薄膜層的寶貴工具。
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