二手 AMAT / APPLIED MATERIALS DPS G5 Mesa #9270845 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS DPS G5 Mesa是一種多晶矽化學氣相沈積（CVD）反應器，設計用於研發（R&D）應用。CVD反應器能夠在大面積基板上沈積高質量的薄膜矽，具有優異的均勻性和可重復性。G5 Mesa利用高壓直噴（DPI）輸送技術，在基板表面上創建反應物氣體的單層均勻分布，用於高質量和高產工藝。反應堆還包括一個低壓微波等離子體源，通過在大型基板上提供出色的矽質量和均勻性來提高工藝的均勻性、吞吐量和生產率。反應堆由帶有工藝模塊的腔室、輸送控制設備、真空泵、部分/總壓力控制系統、動力單元、壓力控制機、溫度控制工具、氣體輸送資產、過程控制模型等組成。腔室裝有底物載體，基座包括反應物氣體的直接註入源和微波等離子體源。G5 Mesa具有固態內存存儲設備、可編程邏輯控制器（PLC）和圖形用戶界面（GUI），允許用戶設置進程參數、監視狀態和接收報告。PLC實時提供對所有參數的精確控制。它還配備了先進的數據采集設備，能夠實時記錄和監測系統壓力、氣流、溫度和微波發生器性能。G5 Mesa設計在300-1000 °C的溫度範圍內運行。它還配備了多個工藝窗口，讓工藝開發者能夠在不同的溫度和壓力水平下控制薄膜性能。此外，G5 Mesa提供了高壓流量輸送控制裝置、低壓微波等離子體源以及防止樣品和大氣汙染的自動關閉機器。AMAT DPS G5 Mesa化學氣相沈積反應器的設計是為了在大面積基板上提供矽均質單層的高效可靠沈積。G5 Mesa憑借其人性化的圖形用戶界面、精密的工藝控制和數據采集系統，以及先進的DPI和低壓微波等離子體源，使優質薄膜矽的沈積具有卓越的均勻性和可重復性。