二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Enabler #293600548 待售
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ID: 293600548
晶圓大小: 12"
優質的: 2008
Etcher, 12"
Factory interface: FI 5.3
Centura AP Mainframe
RF Rack, 12"
Bias 2 RF generator rack
TOYOTA T100L LL/MF Dry pump
SHIMADZU TMP-3403LMC Turbo pump
DAIHEN RMN-50N6 matcher
Shower head assy, TKI SIC SGD, With Alum Plug, E5
12" Facilities interface box: wFIB, eFIB
Inner/Outer independent temperature control
Independent Gas injection: 2 gases for each step
Closer cooling and heating showerhead design
Power supply:
High bias RF power capacity: 7.5 kW (max combined power)
RF Frequency: 162 MHz Source, 13.56/2 MHz Bias
2008 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Enabler是一種高性能氣相反應器，用於生產半導體工業中使用的元件。AMAT Enabler有一個獨特的設計，它使用了一種基於氣流的專利工藝，為薄膜的沈積提供了一種高效可靠的方法。應用材料啟用器的腔室被封閉在大氣中，並充滿一種矽基氣體，通常由矽烷或二矽烷組成，被轉移到基質腔室。啟用器隨後能夠使用內置的熱管理設備來控制基板的導熱系數和蝕刻溫度。該系統允許精確控制用於創建所需薄膜厚度和蝕刻特性的熱能量。AMAT/APPLIED MATERIALS Enabler利用註入加熱等離子體放電區的歐姆電流來實現所需的過程。這種二合一的方法有助於提高沈積速度並最大限度地減少膜汙染。此外，AMAT Enabler還配備了一個快速填充裝置，允許在加工氣體之間進行高效切換。此功能有助於通過減少薄膜的不均勻性、提高均勻性和產生更好的工藝性能來優化工藝。APPLIED MATERIALS Enabler還配備了閉環控制機，以保持設備性能、溫度均勻性和長期的膠片質量。這個最先進的工具監視每個過程階段，包括等離子體生成、離子撞擊和濺射。這一資產還有助於確保整個加工室的準確溫度控制，這對於生產高質量的部件至關重要。綜上所述，Enabler是一種高性能氣相等離子體反應堆，設計用於生產速度和效率更高的半導體元件。AMAT/APPLIED MATERIALS Enabler具有獨特的工藝,它將歐姆電流註入與熱管理相結合,以提高工藝性能並減少汙染。此外,它還利用先進的控制模型幫助在生產過程中保持整個加工室的溫度均勻性。AMAT Enabler通過其先進的功能和可靠的性能,提供了一種高效可靠的方法來生產當今生產的一些最先進的半導體元件。
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