二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 2 #293642693 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Endura 2是一種高功率的先進等離子體蝕刻設備，設計用於廣泛的關鍵應用，例如在下一代半導體上制造3D結構。這種多用途反應堆配置了高通量電離源技術,並具有專有APEX™（高級等離子體提取器）和Duo-ETCH®（雙離子源能力）的出色組合,可提高基板覆蓋率和精密蝕刻效果。在可配置性方面,AMAT Endura 2為制造商提供了針對不同工藝配方和參數的最高靈活性。它還提供了一種先進的10腔負載鎖定解決方案，一次最多可容納10個晶片，用於極其精確的處理。FASSC®負載鎖定技術可確保在整個過程中準確處理、跟蹤和監視晶片。APPLICED MATERIALS Endura 2旨在為各種基材提供卓越的蝕刻精度、無與倫比的吞吐量和關鍵的工藝壽命,從簡單到復雜。它結合了APEX™和Duo-ETCH®技術,可同時在所有腔室中實現高效的多腔室控制和過程同步。這消除了大量的手動跟蹤和監視,這使得安裝過程和蝕刻過程比以往任何時候都更快、更可靠。在系統控制方面，Endura 2反應堆集成了一套綜合的優化、分析、分析特征。它的監控能力使工程師能夠從頭到尾跟蹤蝕刻過程，最大限度地減少浪費並提高產量。該單元強大的實時檢測和數據分析功能還允許提供詳細的反饋，這些反饋可用於優化蝕刻工藝，同時確保基板的均勻性和精密蝕刻。機器人輔助的AMAT/APPLIED MATERIALS Endura 2幹真空鎖載機確保精細晶片的安全處理和均勻清潔。BVAVS（背側真空磨料真空工具）自動清洗程序消除了手動裝卸的需要,從而提高了操作效率並降低了汙染風險。AMAT Endura 2直觀的用戶界面和易於使用的軟件界面通過允許用戶快速保存和復制蝕刻配方，進一步幫助簡化設置過程。此外，APPLIED MATERIALS Endura 2配備了先進的自動化遠程監控和數據收集資產，使用戶能夠實時監控模型的性能。此設備允許用戶遠程診斷任何進程異常或異常,並準確查看系統的運行狀況。反應堆還具有集成的可追蹤性管理功能，可幫助用戶跟蹤從過程開始到結束的蝕刻結果。Endura 2是一款功能強大的高級等離子體蝕刻裝置，專為苛刻的工藝和應用要求而設計。它具有高通量技術、專有APEX™和Duo-ETCH®功能,能夠高效蝕刻復雜的基板,而其自動遠程監控和數據收集機器有助於確保精確可靠的工藝產量。