二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 2 #293827408 待售
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ID: 293827408
優質的: 2015
Physical Vapor Deposition (PVD) system
Part number / Description
0410-10000 / System, 12"
FAM300E2 / MDP E2 Endura, 12"
0415-10014 / -
0415-10346 / Impulse AIN
0415-10046 / Dual mode degas
0415-10054 / RGA Manual valve
0395-09095 / Infopad pos A or B
0395-09026 / E78 Ionizer
0395-09073 / Upper E84 Data logging sensors and cables
0395-09071 / TIRIS with RF E99 Carrier ID
0395-00114 / Operator access switch
0395-09056 / Remote flat panel monitor on stand
0395-09007 / Effective 75 Feet with 66 Feet
0415-10080 / Umbilical’s 75 Feet Mainframe to equipment rack
TR-STND-22 / Standard training package
WT-12MO / Standard 12-month warranty
0415-10082 / FIF Generic kit
0415-10089 / Lifting aids
0415-10090 / Maintenance lift
0395-09029 / FI Align and levelling tool kit
0395-09039 / Ionizer calibration tools
0395-09055 / Outrigger levelling tools
0395-09031 / FI Service lift
0395-09123 / Load Port Service Tool (7) Salop
0395-09013 / Controller recovery tools
0395-09066 / YAT Teach tools, 12”
0415-10288 / Cons kit - Impulse
0415-10313 / Shutter disk, ESC, Ti, AL Arc spray
2015 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Endura 2是一種高性能、全場、沈積型反應器，設計用於半導體生產中先進的光刻和制圖要求。AMAT Endura 2結合了強大的體系結構和先進的沈積技術,為滿足半導體生產中的關鍵尺寸控制要求提供了高效可靠的系統。APPLIED MATERIALS Endura 2是一種短波長紫外線（SWUV）光源，具有增強的光源功率，允許提高工藝精度和重復性。Endura 2還采用了先進的絕緣腔室和傳感器技術。這樣可以確保最佳真空性能、提高基板溫度均勻性和更高的吞吐量。此外,它還可以滿足高級光刻和制圖過程（如原子層沈積（ALD）和種子層沈積（SLD）過程）所需的任何關鍵環境穩定性要求。AMAT/APPLIED MATERIALS Endura 2具有先進的溫度和壓力控制功能,以及增強的過程控制軟件,以提高生產效率。這可以精確控制工藝參數和沈積層。AMAT Endura 2是一個模塊化系統，允許方便擴展、升級和重新配置。這樣可以靈活地生產各種類型的半導體器件和元件。APPLICED MATERIALS Endura 2為大批量生產提供了可靠且經濟實惠的解決方案,並在短時間內提高了產量。此外,它能夠在高溫和高壓下運行,並且可以提供高於正常的吞吐量速率。Endura 2還可以防止由於自動清洗和沈積過程而在任何時候受到汙染。這確保了所有基板都是高質量的，具有可重復和可靠的金屬圖樣性能。總體而言，AMAT/APPLIED MATERIALS Endura 2是一個先進可靠的系統，可以滿足半導體生產的苛刻要求。它能夠滿足關鍵尺寸和溫度均勻性要求,同時在緊湊的封裝中提供高吞吐量、卓越的過程可重復性和更高的元素產量。
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