二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 2 #293827409 待售
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ID: 293827409
優質的: 2016
Physical Vapor Deposition (PVD) system
Part number / Description
0410-10000 / System, 12"
FAM300E2 / MDP E2 Endura, 12"
0415-10014 / -
0415-10346 / Impulse AIN
0415-10046 / Dual mode degas
0415-10054 / RGA Manual valve
0395-09095 / Infopad pos A or B
0395-09026 / E78 Ionizer
0395-09073 / Upper E84 Data logging sensors and cables
0395-09071 / TIRIS with RF E99 Carrier ID
0395-00114 / Operator access switch
0395-09056 / Remote flat panel monitor on stand
0395-09007 / Effective 75 Feet with 66 Feet
0415-10080 / Umbilical’s 75 Feet Mainframe to equipment rack
TR-STND-22 / Standard training package
WT-12MO / Standard 12-month warranty
0415-10082 / FIF Generic kit
0415-10089 / Lifting aids
0415-10090 / Maintenance lift
0395-09029 / FI Align and levelling tool kit
0395-09039 / Ionizer calibration tools
0395-09055 / Outrigger levelling tools
0395-09031 / FI Service lift
0395-09123 / Load Port Service Tool (7) Salop
0395-09013 / Controller recovery tools
0395-09066 / YAT Teach tools, 12”
0415-10288 / Cons kit - Impulse
0415-10313 / Shutter disk, ESC, Ti, AL Arc spray
2016 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Endura 2反應器是一種革命性的蝕刻沈積室，設計用於半導體加工。是AMAT SPECTOR系列先進化學產品的最新突破之一。AMAT Endura 2是第二代蝕刻沈積平臺，它具有幾項創新，使其在競爭中脫穎而出。APPLICED MATERIALS Endura 2具有獨特的雙泵浦配置,使腔室能夠達到前所未有的腔室壓力和工藝參數。它還具有降低腔室體積和降低腔室輪廓的特點，從而大大減少了特定晶片尺寸下可用於沈積的總表面積，從而提高了利用率，降低了每晶片的成本。反應器設有蝕刻室和沈積室兩個室。蝕刻室采用平衡、實時的反應性離子蝕刻技術，形成特征剖面，精確控制長寬比和地形。沈積室利用感應耦合等離子體（ICP）源沈積厚度均勻、成分控制精確的薄膜。Endura 2還具有自動晶片處理機制，例如可以在腔室之間準確高效地傳輸晶片的機器人臂和識別單個晶片並跟蹤其在過程中位置的晶片映射設備。它還具有復雜的軟件來監測和優化蝕刻和沈積過程的參數。AMAT/APPLIED MATERIALS Endura 2附帶了一個先進的數據采集和分析系統。這個先進的單元提供對蝕刻和沈積參數的實時監測以及後處理分析。AMAT Endura 2機設計具有較高的安全標準。它具有幾個冗余的安全功能，如緊急關閉系統、緊急通風系統和先進的監控系統。這些功能確保人員和設備的安全。APPLICED MATERIALS Endura 2是一個革命性的蝕刻沈積室，為半導體加工業設定了新的標準。它具有獨特的雙泵浦配置、低腔輪廓和自動化晶圓處理機制，使其達到前所未有的過程控制和精度水平。此外，其先進的數據采集和分析工具對過程參數提供了可行的見解。其先進的安全特性進一步確保了安全性和可靠性。因此，Endura 2是低成本、高性能、高效半導體加工的理想選擇。
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