二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 VHP #9373208 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 VHP
ID: 9373208
晶圓大小: 6"
PVD Sputtering system, 6".
AMAT/APPLIED MATERIALS Endura 5500 VHP是一種垂直熱處理(VHP)反應器,設計用於器件半導體制造。這座反應堆是專門為滿足半導體工業日益增長的要求而量身定制的,其中包括高精度和重復性。AMAT Endura 5500 VHP設計用於在反應堆內部提供動力和高溫控制的均勻性。這是使用獨立支持、垂直對齊的3000系列射頻源陣列完成的,這些源既充當離子源,又充當熱源。3000系列射頻源使反應堆能夠向任何合理取向的底物輸送動力,從而能夠對有模式的能量釋放進行精細控制。利用這種能力,APPLIED MATERIALS Endura 5500 VHP可以精確精確地調節表面溫度和功率水平,從而實現高溫和低能解。反應堆還有一個先進的均勻性控制系統,能夠準確調整配電。這樣可以確保在整個曲面上輸出均勻的能量,從而創建所需的均勻性和精度。另外,反應堆設有低電弧室,降低了室內靜電放電的風險。這樣可以安全操作。Endura 5500 VHP利用最新的熱處理技術,包括惰性氣體註入和真空技術,減少蝕刻和沈積過程中的顆粒和雜質。該系統建立在一個ISO-14644-1的潔凈室標準上,使反應堆內的所有部件都能得到相同水平的潔凈度。這樣可以確保室內環境的一致性和近乎完美,以提供統一的、可重復的結果。AMAT/APPLIED MATERIALS Endura 5500 VHP還具有出色的工藝監控功能,使操作員能夠實時查看溫度和工藝條件。此外,它的用戶友好、圖形化用戶界面使配置參數和選擇配方變得容易,從而使設備能夠成功運行。AMAT Endura 5500 VHP是一種先進的垂直熱處理(VHP)反應堆,旨在滿足半導體行業的高科技需求。它由獨立支撐、垂直對齊的3000系列射頻源組成的陣列,可以對基板加熱和功率水平進行精細控制,而其低電弧室降低靜電放電的風險。該反應堆還配備了先進的均勻控制系統、惰性氣體註入、真空技術和ISO-14644-1潔凈室標準,以產生一致和可重復的結果。用戶友好的圖形用戶界面及其工藝監控功能使APPLIED MATERIALS Endura 5500 VHP成為任何半導體生產的可靠安全設備。
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