二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #190624 待售

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ID: 190624
晶圓大小: 6"
優質的: 1991
PVD Sputtering system, 6" Chamber Type: 4 Chamber (1 Standard Body, 3 Wide Body), Pre-Clean 1 Type Process: Al, Ti, TiN No missing parts 1 STD-Ti (clamp) 2 Wide-AL (A101) 3 Wide-AL (A101) 4 STD-Ti (clamp) 5 - A pass B cool C PC2 D PC2 E orienter-degas F orienter-degas Buffer HP Xfer HP LL narrow Magnet dura and G12 1991 vintage.
AMAT/APPLICED MATERIALS/AKT Endura 5500是一種多功能反應堆,專為半導體市場的廣泛應用而設計。用於化學氣相沈積(CVD)、蝕刻、氧化、擴散等多種過程。AKT Endura 5500是一款具有原位快速熱處理能力和無與倫比的溫度均勻性的熱處理設備。它具有高達1700 °C(3100 °F)的高溫範圍,使其適合一系列先進的半導體材料。該反應器設計具有雙等離子體操作能力,改進了材料沈積過程控制。該反應器還采用離子束沈積技術,在晶圓上實現精確的沈積均勻性。AMAT ENDURA 5500具有5.7英寸晶圓容量,並配有兩個獨立的加熱區。這樣就有更好的機會在晶圓上獲得均勻的熱分布。AMAT Endura 5500還配備了石墨敏感器,提供出色的熱管理和均勻性。AKT ENDURA 5500還具有自動化過程控制功能,具有計算機化系統和專用的易於使用的軟件。該單元提供了一致的工藝性能和更快的工藝時間,而其靜電卡盤晶片持有者則提供了高水平的晶片平整度和出色的均勻性。Endura 5500的其他關鍵特性包括卡帶到卡帶傳輸機和用於精確晶圓映射的集成晶圓映射功能。此外,反應器具有保形塗層室,為低k材料提供了改進的保形塗層質量。APPLIED MATERIALS ENDURA 5500反應堆具有業界領先的、無與倫比的溫度控制和一致性水平,為各種應用提供了最佳的工藝性能。它非常適合加工各種材料,包括用於下一代半導體器件的先進材料。其強大的設計和領先的技術,加上其易用性,使其成為半導體應用的首選。
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