二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9101660 待售

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ID: 9101660
晶圓大小: 8"
優質的: 1997
MOCVD System, 8" Process: one Magnetron was Cu Gasses: Ar, N2, O2 for process (2) Standard body chambers (2) Wide body chambers (1) TxZ chamber with no source lid and partial CVD gas box parts Standard body chambers: No adapter or source lids (no magnetrons) Wide body chambers: (1) Dish target magnetron source (one missing) H2O Cooled (2) Narrow body loadlocks (2) Stnd clamped heater for standard body chambers (2) HTHU heaters for wide body chambers (1) TxZ heater All cryos are standard Endura CTI onboards Currently crated in a warehouse 1997 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500是一種最先進的低壓化學氣相沈積(LPCVD)反應器,旨在滿足當今各種研究和制造應用中的性能要求。這種節能設備采用專利的「高性能」技術,提供了安全、可重復和可靠的環境。模塊化設計允許將反應堆配置為滿足應用程序的特定需求。該設計采用了強大的「受控環境」機器人技術,確保了準確、可重復和高效的基板加載和處理。AKT Endura 5500采用高效的熱管理技術來實現統一、可重復的工藝結果。靈活的工藝架構能夠支撐多種材料,如單層和多層金屬、氧化物、氮化物、矽和二氧化矽。LPCVD環境在各種晶圓尺寸上均勻、快速地產生均勻的高性能薄膜層。采用動態腔室壓力控制器和有效的熱管理技術,設計出與外部條件隔絕且可重復性強的工藝區域。AMAT ENDURA 5500中的機載溫度範圍從20C延伸到1000C,以實現精確的沈積速率和均勻的層厚度。該系統旨在滿足特定的客戶需求,允許在給定範圍內進行精確的溫度控制。高精度自動化平臺允許在處理過程中加載和處理較小或較大的基板尺寸,從而提高靈活性。APPLIED MATERIALS ENDURA 5500單元還包括多種集成工具,如用於防止顆粒汙染的先進工藝監測機和強大的物料處理工具。流程監控資產具有方便的警報功能,允許您在流程參數超出既定限制時快速進行調整。集成物料處理模型可提供準確、可重復的過程物料交付。該設備還包括超低顆粒噴塗技術,以盡量減少有害顆粒的擴散,確保清潔、安全的基板。此外,Endura 5500還使用自動控制系統提高了可靠性和可重復性。總體而言,AMAT Endura 5500是一個功能強大且可靠的LPCVD腔室,旨在優化各種工藝,以實現精確控制、提高吞吐量和效率。該裝置具有集成的安全性、動態溫度控制、先進的過程監控和直觀的物料處理系統,可提供精確、安全和可重復的薄膜沈積。
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