二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9117504 待售
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已售出
ID: 9117504
PVD System, 8"
Process: AL Sputter
Robot information:
Buffer: AMAT HP
Transfer: AMAT HP
Load Lock information:
Wide body with Auto tilts in/out
No sliding sensor kit
Chamber information:
Chamber A
Chamber type: Pass Thru
Chamber Lid: Metal Lid
Chamber B
Chamber type: Cool down
Chamber Lid: Metal Lid
Cooling method: By PCW / By Gas
Chamber C:
Chamber Type: PC II
Chamber process: Preclean
RF Gen/DC power supply 1: CPS-1001
RF Gen/DC power supply 2: LF-10
RF Gen/DC power supply 3
Turbo/Cryo pump Type: 361C
Chamber D:
N/A
Chamber E:
Chamber type: Orient/Degas
Chamber 1:
Chamber Type: Wide body
Chamber process: TiN
RF Gen/DC power supply 1: MDX-L12
RF Gen/DC power supply 2
RF Gen/DC power supply 3
Turbo/Cryo pump Type: CTI OB-8F
Gate Valve: (2) Position
Chamber 2:
Chamber Type: STD Body
Chamber process: AL
RF Gen/DC power supply 1: MDX-L12
RF Gen/DC power supply 2
RF Gen/DC power supply 3
Turbo/Cryo pump Type: CTI OB-8F
Gate Valve: 2 Position
Chamber 3:
Chamber Type STD Body
Chamber process AL
RF Gen/DC power supply 1 MDX-L12
RF Gen/DC power supply 2
RF Gen/DC power supply 3
Turbo/Cryo pump Type CTI OB-8F
Gate Valve 2 Position
Chamber 4:
Chamber Type: Wide body
Chamber process: TiN
RF Gen/DC power supply 1: MDX-L18
RF Gen/DC power supply 2
RF Gen/DC power supply 3
Turbo/Cryo pump Type: CTI OB-8F
Gate Valve: (2) Position
1999 vintage.
AKT/AMAT/APPLICED MATERIALS/AKT Endura 5500是一種先進的化學氣相沈積（CVD）反應器，設計用於高性能半導體和平板顯示應用。它是一種單晶片、大氣壓、盒式磁帶到盒式磁帶的解決方案，它提供了非常先進、過程適應性強的技術，具有出色的腔室性能和優越的晶片均勻性。這種創新的CVD反應堆提供了卓越的工藝均勻性，極低的循環時間，並且在廣泛的工藝化學體系中具有很高的通量，同時保持了出色的腔室特性。AKT Endura 5500可提供始終如一的高品質薄膜,滿足苛刻的工藝要求。端到端工藝控制和能力保證了優越的晶片質量和無針孔薄膜。該系統還通過動態氣體再平衡提供了優越的工藝劃分靈活性，主動調整CVD反應堆的激光性能，以最大限度地提高一個卡帶內的晶圓均勻性，累積多個卡帶，以及超越。該系統與更廣泛的基材（如玻璃、矽和石英）一致地提供改進的工藝。自動化和用戶可定制、配方驅動的控制軟件可實現極其精確的腔室控制、優化操作、縮短周期時間和提高產量。自動清除和Clean™常規功能允許快速和可重復的處理周期。AMAT ENDURA 5500反應堆還具有先進的運動控制技術，如無掃描控制以盡量減少時間和均勻性變化，以及優越的晶圓傳輸以減少循環時間和可重復過程的產量。最後但並非最不重要的一點是，該系統實現了更快的晶片Changeover™（FWC™）和改進的激光Reflection™（ILR™），通過顯著改善晶片轉換性能和提供虛擬的清潔室般的氣氛，提高了反應堆的可靠性和正常運行時間。總體而言，AMAT/AKT ENDURA 5500 CVD反應堆提供了適用於各種底物的最高性能、最高質量、可重復的工藝。它是當今最先進的CVD反應堆，非常適合高性能、精密半導體和平板顯示應用。
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