二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9134838 待售
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已售出
ID: 9134838
優質的: 1999
Frame,
AL sputter
Chamber information
a) Chamber A
- Chamber type: pass thru
- Chamber lid: metal lid
b) Chamber B
- Chamber type: cool down
- Chamber lid: metal lid
- Cooling method: By PCW / by gas
c) Chamber C
- Chamber type:
- Chamber process: PC II
- RF gen/DC power supply 1: Preclean
- RF gen/DC power supply 2: CPS-1001
- Turbo/cryo pump type: LF-10
- Turbo/cryo pump Type: 361C
e) Chamber E
- Chamber type: orient/degas
f) Chamber F
- Chamber type: orient/degas
g) Chamber 1
- Chamber type: wide body
- Chamber process: TiN
- RF gen/DC power supply 1: MDX-L12
- Turbo/cryo pump type: CTI OB-8F
- Gate Valve: 2 Position
h) Chamber 2
- Chamber type: STD body
- Chamber process: AL
- RF gen/DC power supply 1: MDX-L12
- Turbo/cryo pump type: CTI OB-8F
- Gate Valve: 2 position
i) Chamber 3
- Chamber type: STD body
- Chamber process: AL
- RF gen/DC power supply 1: MDX-L12
- Turbo/cryo pump type: CTI OB-8F
- Gate Valve: 2 position
j) Chamber 4
- Chamber type: STD body
- Chamber process: AL
- RF gen/DC power supply 1: MDX-L12
- Turbo/cryo pump type: CTI OB-8F
- Gate Valve: 2 position
j) System component
System Controller
- V440 SBC
- Ion gauge controller
- 15V, 24V DC power supply
- 5Ph driver
- 2Ph driver
Generator rack#1
- MDX-L12 3ea , MDX-L18 1ea
- Turbo controller 1ea
Generator rack#2
- CPS-1001 , LF-10
Cryo compressor
- 9600 comp 2ea
AC rack
- Short body
Cryo Pump
- 2Ph cryo OF-8F 6ea
1999 vintage.
AMAT/APPLICED MATERIALS/AKT Endura 5500是一種半導體直列式反應器，用於將多種層沈積到半導體晶圓上。該反應堆利用氣相化學沈積（VCD）工藝產生超光滑、高效的層。AKT Endura 5500旨在使工藝工程師能夠快速輕松地設置其VCD工藝。AMAT ENDURA 5500是生產級反應堆，周期時間短，吞吐量高。每小時最多可產生十幾個晶圓，周期時間僅為每晶圓5秒。反應堆的自適應控制技術不斷調整和優化工藝參數，確保了膜的一致性、高質量。AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT ENDURA 5500通過其串聯閉環控制系統增強了對該過程的控制。該系統能夠提供關鍵工藝參數的實時檢測和反饋，如溫度、壓力、薄膜厚度和均勻性，從而對沈積過程進行高效控制，保證層級一致。此外，AMAT Endura 5500提供與其他半導體加工設備的全面集成，可以連接到新建的工藝工具，也可以改裝到現有工具。反應堆在加熱和冷卻操作中提供0.1°的可重復性，確保可重復結果。應用材料Endura 5500利用氣相化學沈積工藝將層沈積到晶片上，速度和特性都非常出色。這種VCD工藝利用含金屬材料的細絲，然後加熱，然後蒸發。當汽化的材料到達晶圓時，會變成薄膜層。這種層生產方法消除了對掩蔽的需要，允許以高速和精確的方式生產層。APPLIED MATERIALS ENDURA 5500一般可以產生低電阻率鎢層，以及電導率高、電阻率低等特性的銅鎢和鋁層。這使得反應堆適用於各種各樣的半導體工藝，如IC器件、MEM器件，以及各種類型的LED和光電產品。AKT ENDURA 5500是生產級反應堆，對沈積過程的控制水平堪稱典範，結果準確一致，與現有加工設備集成。這是任何半導體制造工藝必不可少的工具。
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