二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9142619 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500是為半導體制造而設計的高性能epi就緒反應器。這種強大的反應堆利用先進的等離子體增強化學氣相沈積（PECVD）技術在高溫下沈積薄膜，用於各種應用。AKT Endura 5500憑借其高密度的等離子體源，提供了具有卓越均勻性、晶圓內均勻性和出色的膜厚度控制的富含特征的薄膜。AMAT ENDURA 5500具有一個25.4英寸乘25.4英寸的連續區域石英工藝室,內徑為20.1英寸,以及一個支持最高1000W功率的業界領先的索引表。該室擁有僅43英寸的細長總深度，以最大限度地利用地板空間。AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT ENDURA 5500具有較大的蝕刻區域,可對多達八個批次的基板進行氧化物蝕刻和線性蝕刻。高速晶圓穿梭使晶圓在批量環境中均勻加熱，並支持廣泛的基材尺寸。反應堆的射頻功率耦合系統是專門為等離子體源與工藝室的優越匹配而設計的，具有很高的穩定性和平滑的性能。AKT ENDURA 5500還提供了從低頻到高頻、壓力、氮氣流速功率、功率水平等廣泛的工藝參數窗口。可選的高密度等離子體源允許更好地整合高水平沈積過程和單片薄膜。Endura 5500憑借其正在申請專利的「Centuri」系統,在單個晶片批次內提供了無與倫比的統一性。該系統將工藝氣體動態分配給每個晶片，以實現無與倫比的均勻性和可重復性。反應堆還具有兩個區域設定點控制，允許不同應用和基板尺寸的可變流量。APPLICED MATERIALS Endura 5500還提供了一個可選的自動基板邊緣托盤，有助於減少基板邊緣上的薄膜沈積。ENDURA 5500上的高級控制軟件提供精確的過程控制，包括實時數據和日誌收集。該軟件還具有獨特的GasBox控制模塊，可以自動調整氣體級聯設置，以達到最佳膜厚度和均勻性。AMAT Endura 5500還包括晶圓均勻性映射和高級診斷庫等功能,可快速優化過程結果。總體而言，APPLIED MATERIALS ENDURA 5500是一種可靠、高性能的反應堆，非常適合半導體制造工藝。配備了最新的技術，這種強大的反應堆為您的所有沈積、蝕刻和氮化物需求提供了統一、精確和可重復性。