二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9186543 待售

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ID: 9186543
PVD Systems, 12" INTEL FAB68 Intel original configuration Process group Retrofit B (2) TTN, NiPt NISPUT (2) SiCoNi + (NiPt+NiPt) + (2) Versa TTN+Degas (2) TTN, NiPt CUALSPUT MHM (2) TTN+TTN+Degas CU, TTN, PCXT CUSPUT LDR PCXT + PCXT + (2) EnCoRe II TaN + Cu + Cu + Degas Suspect CU, TTN, PCXT BSI-BATTN PCXT + PCXT + (2) IMP Ti + (2) CVD TiN + Degas CU, TTN, PCXT BSI-PADAL PCXT + PCXT + Versa TTN + TTN+(2) HP Al + Degas.
AKT/AMAT/APPLICED MATERIALS/AKT Endura 5500是專為半導體工業中的高級介電蝕刻而設計的全晶圓工藝反應器。該反應工具提供一流的蝕刻均勻性和對壓力、溫度和流量的高級控制。它是創建高長寬比介電特性、高生產率和卓越工藝控制的最佳選擇。AKT Endura 5500結合優越的光束產生提供卓越的性能。它在25-200攝氏度的過程相關溫度下工作,偏置電壓在0-600 VDC之間,可調節壓力範圍在0.2-1.0 torr之間。反應室采用先進的多室設計,提高了穩定性,提高了工藝靈活性。該系統采用高性能多陰極設計,為先進的介電蝕刻提供卓越的功率傳遞。反應堆提供先進的自動參數控制,使用戶能夠方便地監控、控制和調整過程參數,如溫度、壓力、流量和電壓。這有助於確保流程得到最佳調整和監控,以獲得一致和可重復的結果。它還包括高級反饋補償,提供實時脈寬調制功率控制,以提高性能和精度。AMAT ENDURA 5500配備了升級的氮冷襯裏,用於蝕刻高長寬比特征,並針對抗顆粒進行了優化,保護工藝和等離子體免受汙染。集成的Liner Shield提高了生產的一致性和效率。它還擁有先進的空氣反沖清洗系統,結合高壓空氣爆炸和增加的等離子體生成,徹底清潔工藝系統。反應堆還包括先進的用戶友好軟件。使用高性能建模,軟件幾乎可以為任何流程應用程序確定最高效的流程參數。這有助於降低可變性並優化流程以獲得最佳性能。最後,AMAT/AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT ENDURA 5500是專門為高級介電蝕刻而設計的首屈一指的全晶片工藝反應器之一。它是創建高長寬比介電特性、高生產率和卓越工藝控制的最佳選擇。該反應堆包括多種先進功能,以確保用戶獲得快速可靠的結果。
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