二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9193019 待售
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ID: 9193019
晶圓大小: 8"
優質的: 2000
PVD System, 8"
Wafer shape: SNNF
Chamber type / Location:
Ch-1 Copper SIP ENCORE CU
Ch-2 Refractory SIP ENCORE TA(N)
Ch-3 Refractory SIP ENCORE TA(N)
Cb-4 Copper SIP ENCORE CU
Ch-A Pass thru
Ch-B Cooldown with temp monitor
Ch-C Reactive preclean
Ch-D Reactive preclean
Ch-E Orientor ultra uniform O/D with temp feedback
Ch-F Orientor ultra uniform O/D with temp feedback
System safety equipment:
System EMO Type: Turn to release ETI compliant
Includes EMO button guard ring
Primary side trip amperage: 3P 600VAC 300 AINTCHG Trip unit
Circuit breaker on secondary: 600A
System water leak detector
Mainframe facility water flow
Electrical requirement:
Line frequency: 60 Hz
Line voltage: 480V
Transformer type: 480V; 225kVA
Main AC power inlet hole: Small
2000 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500是一種先進的化學氣相沈積（CVD）反應器，設計用於半導體器件制造、平板顯示器制造和專門研究領域等多種應用。反應堆設有兩個靜態PE-CVD室和兩個動態濺射塗層室。每個會議廳都單獨處理，以提高處理的靈活性，並允許在一個系統中進行多種流程組合。PE-CVD腔室提供了超低底物與底物方差的特殊膜均勻性和層重復性。該室配有一個工藝監測模塊，可確保高性能薄膜的可靠和一致增長，而無需經常進行手動調整或校準。隨附的真空泵提供低於10mTorr的基本壓力，並確保清潔、低汙染的工作環境，同時隨附的氣櫃界面能夠持續保持魯棒性和可重復性。與傳統的濺射塗層相比，動態濺射室的沈積速率明顯提高，減少了濺射時間。在塗層循環過程中,可以改變功率水平,因此具有更大的靈活性。高源功率還允許在某些組件上有更高的沈積速率。隨附的電子束槍發射電子，而不是離子，並產生不會損壞基板的正塗層增長率。除了腔室之外，AKT Endura 5500還包括一個帶有圖形用戶界面的PC控制模塊。此模塊允許遠程訪問,使操作和編程相對簡單。觸摸屏控制面板為操作員提供了所有必要的控制參數，並允許微調設置，而不必打開反應堆。此外，它還具有許多診斷功能，以協助排除故障和優化反應堆設置。AMAT ENDURA 5500是處理需要非均勻關鍵加工的關鍵基材和基材時的可靠、可重復、經濟高效的解決方案。多室功能增加了系統的多功能性，提供了優越的均勻性和長期可重復性。它是針對高性能、低成本應用程序的完美解決方案。
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