二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9193779 待售
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已售出
ID: 9193779
優質的: 2005
Oxide system
Voltage: 480VAC, 30
Frequency: 60Hz
(3) Wires / Ground
Max system rating: 150KVA
Ampere rating of largest load: 172-8A
Interrupt current: 10,000 AMPS
Full load current: 172.8A
(5) Chambers:
Chamber 1: Ti
Chamber 2: Zr
Chamber 3: Mo
Chamber 4: Cr
Chamber D: Ta
2005 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500反應堆是為高質量研究和生產需求而設計的最先進的化學氣相沈積設備。它具有直觀、用戶友好的軟件,以及精確的工程和高級過程控制功能。AKT Endura 5500非常適合多種應用,包括超薄層材料和前體的沈積,金屬氧化物和金屬氮化物薄膜的無機和有機化學氣相沈積(CVD),以及原子層沈積(ALD)。它是大面積薄膜生長的理想選擇,具有大的磁感器尺寸、快速的響應時間、高度可定制的腔室配置以及快速的坡道速率。金屬密封AMAT ENDURA 5500系統具有自動晶圓處理、可編程腔室配置和模塊化電氣單元。對於超薄層沈積,AKT ENDURA 5500出廠調諧的源配置提供了對沈積過程的精確控制。這些精密源減少基底幹擾,以確保均勻沈積。APPLIED MATERIALS Endura 5500還具有雙沈積源端口,使用戶能夠同時存放多種材料。5500建立在一個基礎平臺上,該平臺設計用於在高真空和中真空過程中易於集成,從晶圓級薄膜沈積到納米結構的氣相合成。其不銹鋼結構提供卓越的機械穩定性。腔室壁具有高度真空兼容的柔性進給通量,為工具和工藝傳感器提供了進入腔室內部的外部通道。APPLIED MATERIALS ENDURA 5500采用原位載荷鎖定機,可快速高效地處理300 mm晶圓,具有氣體凈化和熱烘烤功能,可用於在引入主沈積室之前測試工藝條件。這種負載鎖定工具有助於最小化汙染,確保均勻,可重現的薄膜沈積。5500包括先進的溫度和壓力控制系統來優化每個過程。每個工藝都經過精心設計,以確保整個腔室的精確溫度控制。一個可選的基於泡泡的濕度控制資產允許用戶使用各種來源,例如濕的前體和反應物以及加濕的氣體,以支持具有極好均勻性的材料沈積。該型號具有多種安全特性,包括一個離子計超壓監控設備,可隨時監控腔室壓力。一個安全傳感器陣列不斷監控,系統配備了各種各樣的HMI和警報,以確保單位的完整性。總體而言,ENDURA 5500是一臺堅固可靠的機器,為最佳薄膜沈積提供了一個精密而直觀的控制平臺。其用戶友好的軟件、通用的腔室配置和負載鎖定工具,以及先進的安全功能,使其成為各種研究和生產應用的理想選擇。
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