二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9208048 待售
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ID: 9208048
優質的: 2002
PVD System, 8"
Single board computer in controller: V452
Copper barrier / Seed
Wafer handling: SNNF
Front panel type: Light pen
Loadlock vents: Variable speed
Buffer / Transfer robot: HP
Blade material: Thin metal
Chamber A: Bypass
Chamber B: Cool
Chamber E: Degas
Chamber F: Degas
Chamber C: Pre clean
Vacuum pump type: Turbo/dry
RF Match: PVD 200
Cable length: 50 Feet
Pedestal type: Cylinder
Power supply 1: CPS-1001S
Power supply 2: RFPP LF10A
Chamber 1 / 2:
Body style: WB
Source type: VECTRA IMP
Power supply: MXD-L12M 12KW
Heater: B101
Dual TC amp kit: No
Pedestal: B101
Target: D-Bond
Magnet: RH-2
Magnet shim thx: 0.75 mm
Gasline fittings: VCR
Loadlock fittings: VCR
Process MFC-1: 1 Ar 100
Process MFC-2: 1 Ar 100
Paste chamber: No
System roughing pump type: Dry
Chamber cryo pump type: CTI OB-8F, 3 phase
Heat exchangers: 1000
Cryo compressors: 9600 X2
Umbilicals:
Mainframe to controller: 75 Feet
Mainframe to generator racks: 75 Feet
Mainframe to cryo compressor: 75 Feet
Main AC to system controller/sys AC: 75 Feet
System AC to primary generator rack: 50 Feet
Main AC to primary generator rack: 6 Feet
Main AC to pump frame: 50 Feet
Main AC to NESLAB heat exchanger: 50 Feet
Monitor cable: 50 Feet
2002 vintage.
AKT/AMAT/APPLICED MATERIALS/AKT Endura 5500是一種下一代等離子體增強化學氣相沈積（PECVD）反應器，旨在為半導體器件制造中的各種薄膜應用提供可靠、高性能的沈積。該設備利用先進的等離子體技術，生產出具有卓越工藝控制的高質量、均勻的薄膜。AKT Endura 5500反應堆配備緊湊、易於維修的設計，非常適合高通量制造作業。該系統允許用戶為每個腔室獨立設置過程參數，對整個過程提供精確的控制和統一。這樣可以確保薄膜沈積均勻一致，產生高質量的結果。AMAT ENDURA 5500還利用一系列先進的等離子體和氣相技術來優化工藝性能和提高工藝可靠性。通過在非常一致的環境中提供均勻的沈積，該裝置可以產生更厚、更薄和多層的薄膜，並具有精確的控制和可預測的結果。此外，AMAT/APPLICED MATERIALS/AKT ENDURA 5500通過其先進的綜合工藝監測、診斷和工藝優化能力，實現了出色的工藝控制。此外,AMAT Endura 5500還增強了安全性和可靠性。機器利用智能傳感器不斷監測等離子體和溫度狀況。這提供了有關工具狀態的實時反饋,使操作員能夠快速識別和解決任何潛在的性能問題。總體而言,AMAT/Endura 5500為半導體器件制造的薄膜沈積需求提供了易於使用、可靠和高效的解決方案。APPLIED MATERIALS ENDURA 5500憑借其先進的等離子體技術和集成的工藝監測和優化能力，提供了可靠、均勻、精確的沈積結果，非常適合大批量生產。
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