二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9242650 待售

ID: 9242650
晶圓大小: 8"
優質的: 1996
Sputtering system, 8" Robot: HP (Buffer and transfer) (3) Chambers Load lock: Wide Component included: NESLAB Chiller (2) CTI 9600 Compressor cryo Pump: CTI OB 8F 3PH Enhanced Chamber: PVD 4 Chamber E and F: Orient degass 1996 vintage.
AKT/AMAT/APPLICED MATERIALS/AKT Endura 5500是一種尖端、先進的PECVD(等離子增強化學氣相沈積)反應器。這種反應堆的設計旨在將高質量的材料作為薄膜沈積,使其成為半導體工藝和儲存裝置制造等應用的理想選擇。AKT Endura 5500具有獨特的雙頻射頻(RF)供電基板偏置,能夠精確控制介電材料的沈積。它還配備了強大的動態射頻供電系統,對不斷變化的工藝條件提供瞬時響應,確保一致、可重復的工藝結果。AMAT ENDURA 5500旨在提供最大的生產率、可重復性和一致性。它采用獲得專利的Catalyst®技術,支持多個射頻源,並具有優化的二次腔室,可提高均勻性、厚度和成分控制。等離子體腔室是為極低功耗而設計的,允許它以更高的峰值功率運行,同時也減少了熱偏移的可能性。另外,基板偏置控制在沈積介電膜時允許更高的精度和精確度。AKT ENDURA 5500具有較高的沈積速率,在多種基板上具有較高的薄膜厚度均勻性.它具有數字腔室壓力控制器,用於精確控制基板溫度和氣體流動。先進的氣體輸送系統確保了精確的氣體混合物和適當的輸送。多點熱電偶和傳感器陣列能夠實時監測基板溫度和均勻性。AMAT/APPLICED MATERIALS/AKT ENDURA 5500專為最大工藝緯度和控制而設計。其數字化I/O端口提供對所有重要工藝參數的實時控制和監控。它具有自動調諧系統,可輕松可靠地調諧射頻移位頻率和相位,從而在整個過程中實現最大性能。ENDURA 5500專為滿足當今要求更苛刻的半導體制造要求而設計。它通過重復可靠的處理提供了高質量的材料沈積,以提高設備性能。該反應堆經AMAT/APPLIED MATERIALS認證符合SEMI C39半導體制造設備標準設計和制造準則。
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