二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9258409 待售
看起來這件物品已經賣了。檢查下面的類似產品或與我們聯系,我們經驗豐富的團隊將為您找到它。
單擊可縮放
已售出
ID: 9258409
晶圓大小: 8"
PVD Sputtering system, 8"
Wafer shape: SNNF
Chamber:
Chamber A: Pass chamber
Chamber B: Cooldown chamber
Chamber 1: AlCu NB
Chamber 2: TiN WB
Chamber 3: AlCu NB
Chamber 4: TiN WB
Chamber E and F: Degas chamber
Loadlock:
Widebody loadlock
Auto rotation
Cassette type, 8"
Mapping function: WWM
Vent type: Variable speed
Fast vent option
SMIF Interface
Mainframe:
HP Buffer robot
Buffer robot blade: Metal blade
HP+ XFER Robot
Buffer robot blade: Metal blade
LID Hoist
Light tower
Stand along remote monitor
Missing parts:
Mainframe:
Buffer / Transfer chamber cryo
Pump / Robot arm
Chamber 1:
Cryp pump
Chamber 2:
Cryo pump
Heater assembly
Shutter assembly
Chamber 3 and 4: Cryo pump
Loadlock: LLB Index
Rack electrical: PCB
Rack electrical:
Line voltage: 208 V
RF I and II Rack:
Line voltage: 208 V
Compressor electrical:
Line voltage: 208 V
9600 Compressor: 3 Phase
No UPS interface
NESLAB Electrical configuration
AC Rack:
Line voltage: 480 V
Full load current: 400 A
Frequency: 60 Hz.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500是一種沈積設備，設計用於向基板表面供應和減少苛刻的化學物質。它是一種大型加工機器，用於真空和蝕刻應用。AKT的工程師設計了該系統,以提供高水平的可靠性、性能和成本效益。它經常被用於記憶芯片、微電子元件的生產以及化學機械拋光的過程中。AKT Endura 5500的主要部件包括反應堆室、等離子體源和一系列真空泵。反應堆室是底物所在的隔離空間。它被加熱到80至200攝氏度的溫度，這取決於正在進行的沈積類型。反應堆室設有起重銷，便於底物裝卸。放熱化學過程是通過引入氣體和控制時間和壓力來實現的。此外，該單元還有一個數字控制面板，用戶可以設置和控制多個、閥門和壓力參數。AMAT ENDURA 5500等離子體源產生低能羽流，由多種氣源的受保護陶瓷面板產生。等離子體源能夠控制材料的沈積速率，確保整個基板的均勻性和一致性。真空泵用於腔內真空狀態的疏散和保存。它們還負責確保物料進出目標表面。泵具有機器自動壓力控制和過濾能力。AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT ENDURA 5500工具提供了沈積過程的精確控制,允許用戶處理和定制具有多種物理特性的工程材料。此外，該機裝有先進的監控系統，能夠控制和監控基板溫度、壓力水平、沈積物料厚度等幾個參數。資產還提供故障檢測和警報功能,使用戶能夠輕松檢測和解決典型錯誤。總體而言,ENDURA 5500為許多材料加工應用提供了高效可靠的生產。它提供了高度的可靠性、性能和靈活性,允許用戶自定義和控制其制造過程。
還沒有評論