二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9363651 待售
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ID: 9363651
晶圓大小: 6"
PVD System, 6"
Pump
Gen rack
AC rack
Chiller
Chambers:
(2) Ti Chamber
(2) Cu Chamber
(2) Degas chamber
PC Chamber
Durasource TTN
Chamber C: PC II
Chamber F (STD Degas): Clear wafers
Chamber E (STD Degas): Thin clear wafers
TGV
Direct gas injection
HP+ Buffer robot
Xfer has VHP
Vita system controller
EZ LCF On Xfer.
AKT/AMAT/APPLICED MATERIALS/AKT Endura 5500是一種先進的半導體濕式清潔反應堆，旨在滿足最復雜、最具挑戰性的半導體應用需求。這種創新的反應堆旨在提供快速高效的濕式清潔，具有卓越的表面光潔度和卓越的工藝控制。它具有先進的等離子體發生器、強大的UV-VIS光源和緊湊的反應堆室。AKT Endura 5500是晶圓和其他基材全表面和有限面積清洗的理想選擇。它使用專有的專利等離子體發生器，創造一個微調的氣氛，以最佳的濕式清潔性能。發電機包含Ar/H2等離子體生產模塊和UV-VIS光源模塊，這些模塊可以獨立調整以產生精確調諧的等離子體和光組合。這允許在各種不同的基板上進行靈活的清潔配置。AMAT ENDURA 5500的反應室設計為最大限度地隔離工藝氣體和汙染物。其先進的氣流設備和與等離子體發生器的緊密集成確保了即使在高壓氣流的存在下清潔溶液的平緩和均勻流動。腔室還設有高效過濾器，以清除過程中的顆粒汙染，延長腔室壽命。AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT ENDURA 5500還設計了安全殼和安全特性。它配備了包括流程監控模塊、單元控制器和觸摸屏接口在內的全面運行和集成的安全系統。這樣可以確保機器安全運行並按照規定的程序進行操作。APPLIED MATERIALS ENDURA 5500是一種可靠、高效且經濟實惠的濕洗工具,旨在滿足晶圓加工客戶的最高期望。它將純等離子體技術與濕式清洗的行之有效相結合，提供卓越的工藝控制和表面光潔度。以其先進的技術，非常適合在半導體制造、晶圓制造研發中的高性能、高精度的應用。
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