二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9373105 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500 Reactor是一種高精度沈積設備，旨在為半導體和光電技術創造高質量的薄膜微觀結構。該系統利用化學氣相沈積（CVD）、原子層沈積（ALD）和物理氣相沈積（PVD）工藝在基板上沈積超熱膜層。AKT Endura 5500具有高度可定制性,可針對特定需求進行模塊化設計和定制。AMAT ENDURA 5500利用了與所有類型的前體化學物質兼容的玻璃加熱器管。管子可以加熱到950°C，其寬廣的溫度範圍允許在特定條件下創建薄膜層。它具有用於全自動樣品處理的雙快門配置，具有快速的裝卸時間。該單元還采用了高性能自動淋浴頭快門，優化了薄膜的均勻性和厚度。AMAT Endura 5500利用陶瓷絕緣體襯裏進行金屬有機CVD和ALD等應用。它還可以在一系列不同的材料中加入襯裏，用於專門的沈積過程。該機還具有全自動壓力和成分控制工具，可調節每一膜沈積的沈積壓力和腔室成分。這樣可以確保在整個過程中保持最佳條件。在過程驗證和數據收集方面，AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT ENDURA 5500結合了自動端點檢測系統，如石英晶體微平衡（QCM）、橢圓偏振法以及光學和電氣測試。該反應器還利用射頻等離子體和電屏障，允許薄膜均勻和可重復的沈積。ENDURA 5500提供了廣泛的過程控制和監控能力，如多區腔室溫度控制、可變功率過程氣體定位、動力斜坡等。APPLIED MATERIALS ENDURA 5500提供了先進的均勻性控制,能夠監控和控制薄膜厚度和均勻性。它還能提供2D/3D的原位沈積均勻映射能力。此外,它的多區溫度控制資產使用戶能夠控制薄膜的沈積速率,以確保該過程在設定的規格內運行。總體而言，Endura 5500反應堆是為薄膜微結構提供高精度沈積的絕佳選擇。它提供了一個用戶友好的界面、各種自定義流程的選項以及廣泛的流程監視和控制功能。由於它的多功能性，這種模型非常適合一系列的應用，包括半導體和光電技術。