二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura CL #293829676 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Endura CL是一種高度通用的多用途共濺射物理氣相沈積（PVD）反應器。該設備可執行多種任務，如現代集成電路制造中使用的金屬、介電和半導體材料的蝕刻、沈積和拋光。AMAT Endura CL反應器效率高，能快速產生具有優異均勻性和附著力的高質量塗層。這種反應堆的設計具有最大的工藝靈活性，因為它有多種變化，可以將材料沈積在薄至20埃的層中，因此非常適合半導體器件制造。APPLIED MATERIALS Endura CL反應堆的關鍵工藝部件包括射頻源、射頻電源、電磁源、電源。射頻源是用於產生高頻等離子體的高頻發生器。射頻電源用於控制射頻源的功率水平，允許對等離子體進行精確控制。電磁源用於在等離子體室中產生均勻的電場，並由電源供電。Endura CL反應器還具有真空室，能夠在沈積過程中維持室內的低壓環境。真空室還配備了渦輪分子泵和吸氣泵，在濺射過程中保持室內清潔幹燥的條件。此外，腔室與惰性氣源相連，允許將惰性氣體引入腔室，以幫助確保沈積過程中等離子體的均勻性和穩定性。AMAT/APPLIED MATERIALS Endura CL反應器能夠提供卓越的材料性能控制和提高沈積速率。該系統還具有各種靈敏度設置，能夠準確和可重復地沈積均勻和接近網狀的塗層。此外，該單元的工藝參數是完全可調的，允許靈活不同的膜要求。AMAT Endura CL的其他特點包括支持高速沈積速率的多目標設計和基於陶瓷的、無汙染的共濺射工藝。總體而言,APPLICED MATERIALS Endura CL是一種高效可靠的濺射PVD反應器機器.它非常適合廣泛的應用，從生產現場發射顯示器到半導體存儲器。Endura CL具有用戶友好的操作和出色的工藝控制,是滿足任何高級PVD工藝要求的理想解決方案。