二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura CL #9251713 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS Endura CL
ID: 9251713
晶圓大小: 12"
優質的: 2003
PVD System, 12" 2003 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Endura CL是一種先進的沈積反應器,用於沈積由金屬和復雜有機化合物組成的多種薄膜。它配有集成腔室設計,對其設計的應用非常有利。AMAT Endura CL采用獨特的工藝室,允許使用多個偏移,以確保整個基板上沈積速率的最佳均勻性和準確性。該工藝室被玻璃蓋完全封閉,提供了一個均勻且無汙染的環境。應用材料Endura CL具有多種高級特性,包括高溫工藝能力,可在高達1000 °C的溫度下沈積。這提供了更高的沈積溫度,均勻性,層厚度和速率控制,以及提高步驟覆蓋和提高吞吐量。此外,Endura CL還采用了創新的和用戶可編程的高級沈積配方,允許在一個周期內實現復雜的厚度。此外,AMAT/APPLIED MATERIALS Endura CL能夠同時運行多個配方,允許在一個周期內沈積多層厚度不同的材料。這減少了對額外處理步驟的需求,並可以顯著減少沈積時間。AMAT Endura CL配備了一個原子束源,用於增強沈積控制,從而確保在基板上一致的外延生長和均勻的薄膜沈積。它還采用了多區流體動力尋址設備,在整個工藝室提供均勻的氣體分布。這樣可以提高系統的效率、可重復性和生產率。APPLICED MATERIALS Endura CL的設計具有較低的沈積速率能力,允許厚度低至幾納米的層沈積。綜上所述,Endura CL是一種先進的沈積反應器,為各種材料的沈積速率提供了卓越的精度、均勻性和準確性。它具有獨特的工藝室、高溫能力、原子束源和多區流體動力尋址單元。該機器可用於復雜的多循環沈積,能夠控制低至幾納米的沈積速率。這使得AMAT/APPLIED MATERIALS Endura CL成為納米級薄膜沈積和工藝參數精確控制的理想選擇。
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