二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura CL #9271325 待售
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ID: 9271325
晶圓大小: 12"
優質的: 2003
PVD System, 12"
Process: CH-1_Ti / CH-2_AL / CH-3_AL / CH-E&F_Degas
2003 vintage.
AMAT/APPLICED MATERIALS Endura CL是一種先進的翻蓋反應器設備，專門設計用於沈積具有高度一致性和均勻性的納米電子材料。AMAT Endura CL的腔室結構采用抗蝕刻陶瓷結構，確保了卓越的工藝效果。APPLICED MATERIALS Endura CL系統配備真空技術，通過增強對流提供最大晶圓覆蓋範圍。它具有一個傳送帶傳熱單元，以確保整個基板表面精確的溫度均勻性。此外，它的低水蒸氣壓力真空保證了高通量和低顆粒問題在界面。Endura CL的設計支持多種不同的工藝技術，包括快速熱處理（RTP）以及電化學沈積（ECD）和分子束外延（MBE）。它能夠進行高達1,200 °C的高溫處理，並具有高達1,300℃的氯氣環境。AMAT/APPLIED MATERIALS Endura CL也能支持結晶、氧化膜沈積、氮化物沈積和歐姆接觸應用。AMAT Endura CL是業界最先進的低壓化學氣相沈積（LPCVD）反應堆,具有高度可定制的設計,允許在此基礎上構建定制工具。它具有直觀的控制軟件,可用於創建定制配方,以實現最佳的流程吞吐量和產量。反應堆可用於多種薄膜應用，包括互連層、層間介電（ILD）、屏障和擴散層以及鈍化層。它的設計賦予了它處理廣泛的材料的靈活性，包括矽-的、的、的、的、的、的、氮化物和多晶矽膜。APPLICED MATERIALS Endura CL機是專門為加工直徑達200毫米的晶片而設計的。它還提供了串聯過程監控工具（PST）以及端點控制資產,可幫助用戶最大限度地提高產量並優化整個過程性能。最後，Endura CL是一種強大的翻蓋反應器模型，為納米電子材料的沈積提供了優越的一致性和均勻性。反應堆配備了多種先進功能，完全可定制，以滿足客戶的需求。它還能夠通過高溫處理和可定制的工具設計處理各種材料和應用。
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