二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura CL #9276760 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS Endura CL
ID: 9276760
晶圓大小: 12"
優質的: 2003
PVD System, 12" (3) Chambers Chamber 1: Ti Chamber 2: Al Chamber 3: AL 2003 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Endura CL是一種反應器,旨在使工藝工程師能夠在各種薄膜應用中進行鎢化學氣相沈積(CVD)。這一下一代反應堆適用於半導體工業,能夠加工鎢和其他金屬層,用於薄膜半導體器件的沈積。AMAT Endura CL反應堆在高級水平上提供高精度、一致的棕褐色至棕褐色均勻性。該反應堆的設計目的是提供具有低運行端楔形變化的高度可靠和可重復的CVD工藝。APPLICED MATERIALS Endura CL的集成控制設備提供卓越的均勻性控制和全晶圓級工藝控制。此外,使用更高的燈絲容量和即時從上到下的均勻性控制可以加快刀具的恢復速度。此外,Endura CL反應堆還具有先進的晶圓加載和多晶圓卸載能力,使工藝工程師能夠最大限度地提高吞吐量,最大限度地減少占地面積。AMAT/APPLIED MATERIALS Endura CL結合了最先進的自動化技術,具有自動清洗、自動過程晶圓交換和自動粉末充電等多種選擇。AMAT Endura CL還具有中程排氣洗滌器、增加的工作空間等功能增強功能。該系統還利用先進的自動化技術進行準確的沈積和過程控制。特點包括集成的自動溫度控制單元,確保精確和可重現的性能;一臺用於精確和可重復輸送氣體的綜合氣流平衡控制機;以及增強精密控制和均勻性的沈積控制工具。此外,APPLIED MATERIALS Endura CL資產通過高級安全功能提高了工作效率和可靠性。反應堆配有緊急關機開關,可在操作員需要時立即關閉模型。該設備還具有自動燃氣關機功能,以避免操作時需要手動調整燃氣閥門。Endura CL反應堆是半導體制造商的理想選擇,他們需要高精度、一致的鎢CVD工藝,並且正在尋求提高吞吐量和成本效益。該反應堆包括一系列功能,旨在實現可靠、可重復的性能,最小的停機時間,同時繼續處理具有高均勻性的晶片。
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