二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura CL #9293628 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Endura CL Reactor是一種連續流動氣相沈積設備，設計用於金屬、介電和半導體材料上的低溫原子層沈積（ALD）。該系統使氧化物、氮化物、硫化物和其他薄膜材料的沈積能夠滿足各種發展要求，如微機電系統（MEMS）的精密膜和先進的光學元件。AMAT Endura CL反應堆采用模塊化設計，采用優越的材料建造，具有長期耐用性。它配備了雙沈積源，允許同時操作兩個獨立的薄膜，這比傳統的單源系統減少了單個沈積所需的時間。該單元還采用了先進的膜沈積技術，如順序ALD和共沈積。順序的ALD工藝可以使薄膜逐層生長,從而產生均勻、保形且高度調節的厚度薄膜。共沈積過程允許兩種材料共沈積，用於控制和精確的薄膜性能。反應堆包括一個自動化的樣品裝載機和一個高效的氣體歧管，能夠輸送不同的氣體和前體。它還提供精確的溫度和流量控制，以及脈沖反應性氣體註入和定時批量氣體流動，使ALD參數得到完美的控制。APPLICED MATERIALS Endura CL包括一個工作站，該工作站具有明亮的圖形用戶界面，便於監測和控制沈積過程。它配備了記錄每一步的數據記錄功能，並為自動配方步驟編程。該工具還包括過溫警報、流量警報、安全閥等多種安全功能。總體而言，Endura CL反應堆為各種開發需求提供精確、可重復的薄膜沈積解決方案。其先進的特性和高效的氣體輸送使其成為金屬、介電和半導體材料的低溫ALD的理想選擇。這一可靠、用戶友好的資產提供了優越的薄膜質量，這使得它完美的精確和均勻的薄膜沈積在廣泛的底物。