二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura CL #9390614 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Endura CL反應器是一種具有磁增強感應耦合等離子體（ICP）源的等離子體蝕刻設備。這種高性能、高通量的系統是為各種材料的蝕刻而設計的，包括矽、的、的、的、的、的、的。AMAT Endura CL利用感應耦合等離子體（ICP）和電子回旋共振（ECR）源的獨特組合,提高了蝕刻速率、優異的選擇性和高質量的蝕刻輪廓。包括蝕刻室、等離子體源和電源在內的內部部件經過精密和精確的設計,以確保清潔、低缺陷的蝕刻表面。AMAT CL通過各種蝕刻參數實現了高吞吐量的微調。APPLICED MATERIALS Endura CL配備了四英寸蝕刻室和自動騎行升降機，用於精確的直徑控制和盡可能高的選擇性。Endura CL的ICP源由外部射頻發電機、磁場發電機和微波源組成。ICP源產生具有高濃度離子和自由基的羽流，這些羽流更快地穿透工件以提高蝕刻速率。獨特的電子回旋共振源允許蝕刻過程中底物溫度較低，減少等離子體引起的損傷，實現更高的通量率和改進的光學性能。AMAT/APPLIED MATERIALS Endura CL還提供了高度均勻的蝕刻輪廓和出色的蝕刻選擇性，尤其是對於多層結構。其二維板設計為減少側壁變化，允許高精度、高縱橫比結構。高穩定室壓力機在蝕刻過程中保證精密蝕刻參數。AMAT Endura CL是各種蝕刻應用的理想工具，如矽基板的深孔形成、MEMS/NEMS應用的高縱橫比蝕刻，以及對其、石英、鋁等硬質材料的精確微加工。基於氨基的高選擇性特性減少了蝕刻結構中的汙染，適合敏感的器件結構應用。它具有APPLIED MATERIALS Endura CL的所有功能,是高性能、高通量蝕刻過程的理想工具。