二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura HP 5500 #293822305 待售
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ID: 293822305
晶圓大小: 6"
優質的: 2019
PVD System, 6"
Dual loadloack
Dual transfer chamber & dual on-board 8F cryopumps
Orienter / degas module
Preclean chamber & LEYBOLD TMP361C Turbopump
Chamber 2:
PVD sputter chamber
On-board 8F cryopump
Chamber 3:
Wide body PVD sputter chamber
On-board 8F cryopump
Control cabinet
Generator rack
(2) Advanced energy pinnacle RF generators
(2) CTI-CRYOGENICS 9600 Helium compressors
Motor controller
EDWARDS iXL 1000 Vacuum pump
EDWARDS iXL120 vacuum pump
THERMO FISHER Recirculating chiller
COMDEL CDX-2000 dual RF generator
Power cabinet
Voltage: 208V
Frequency: 60Hz
RPM: 3ph
Currency: 150kVA
2019 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Endura HP 5500是一種尖端的化學氣相沈積(CVD)反應器,專為大批量制造先進半導體器件而設計。該反應器是半導體制造廠用來將各種材料的薄膜沈積到矽晶片上的關鍵工具,是集成電路生產的關鍵一步。AMAT Endura HP 5500的關鍵特性之一是其高吞吐量能力,允許在短時間內高效處理大量晶片。這是通過結合先進的自動化系統、優化的氣流控制和改進的晶圓處理機制來實現的。該反應堆旨在最大限度地減少停機時間和提高生產率,使其成為大容量半導體制造設施的理想選擇。APPLICED MATERIALS Endura HP 5500配備了多個工藝室,每個室能夠同時執行不同的沈積過程。這可以提高制造過程的靈活性和效率,因為不同類型的薄膜可以並行沈積在晶片上。反應堆還配備了先進的溫度控制系統,以確保晶片在沈積過程中的精確、均勻加熱,從而導致高質量的薄膜生長和提高器件性能。反應堆設計用於處理廣泛的材料,包括介電膜、金屬膜和復合半導體。這種多功能性使得Endura HP 5500適合半導體制造的多種應用,從內存芯片到邏輯器件再到電源器件。反應堆還能夠沈積厚度和性質各異的薄膜,使制造商能夠量身定制工藝,以滿足其特定的裝置要求。在工藝控制方面,AMAT/APPLIED MATERIALS Endura HP 5500具有先進的監控系統,以確保精確和可重現的沈積結果。反應堆配有實時計量工具,允許操作員在沈積過程中監測薄膜厚度、成分和均勻性。此反饋回路可實現過程優化和控制,從而提高膠片質量和產量。AMAT Endura HP 5500的設計也考慮到可持續性,采用節能組件和工藝,以盡量減少對環境的影響。反應堆配有減少有害副產品排放的廢氣減排系統,以及將氣體消耗降至最低的高效氣體輸送系統。這些可持續性功能使APPLIED MATERIALS Endura HP 5500成為希望減少碳足跡並遵守環境法規的半導體制造商的首選。總體而言,Endura HP 5500是最先進的CVD反應堆,為大容量半導體制造提供高吞吐量、靈活性和精確度。其先進的設計、過程控制功能和可持續性功能使其成為生產性能和可靠性得到改進的下一代半導體器件的寶貴工具。
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