二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II Liner/Barrier #9173804 待售

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AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II Liner/Barrier
已售出
ID: 9173804
晶圓大小: 12"
PVD (Physical vapor deposition), 12".
AMAT/APPLIED MATERIALS Endura II Liner/Barrier是為生產半導體而設計的反應堆。它采用特殊的金屬襯裏和絕緣屏障設計,支持半導體器件生長所需的化學環境。這使它能夠生產性能卓越、使用壽命長的設備。Endura II的金屬襯裏由鈦和合金62-Nickel-21鉻-17銅構成。這種材料設計具有很高的耐腐蝕性和強度,以抵禦生產過程中遇到的極端條件。金屬確保所生產的設備質量最高,產品壽命長。絕緣屏障由陶瓷材料RBSiC(電阻粘結碳化矽)制成。其設計目的是為了提供絕緣,使其免受制造過程中遇到的極端溫度的影響。絕緣使設備的使用壽命最大化,同時還提供了防止電氣故障的保護。Endura II專為中低批量生產而設計。它能夠生產各種設備,如ASIC、Fabis和內存應用程序。反應堆是為了成本效益而設計,並有一個高效的控制系統,以幫助使用者優化過程。Endura II設計靈活,可以輕松定制以滿足用戶的需求。它具有用於批量和連續過程的能力,包括自動調整和自動校準等功能。這有助於使該過程更輕松、更高效。Endura II提供出色的溫度控制和可預測性。可用於超高真空(UHV)高達12毫巴,高真空(HV)高達2毫巴。這有助於確保設備的生產環境穩定且可重復,非常適合創建高質量的設備。Endura II專為易於使用而設計,它具有多種安全功能。它設計有在系統發生故障時的安全關閉、離線監控和集成控制系統,以幫助用戶最大限度地實現流程。AMAT Endura II Liner/Barrier是為生產半導體而設計的反應堆。它設計有一個特殊的金屬襯裏和絕緣屏障,提供環境所需的生產質量裝置。該反應堆專為中低體積生產而設計,能夠用於批量和連續過程。它具有出色的溫度控制和可預測性以及多種安全特性。這允許用戶生產性能卓越、使用壽命長的設備。
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