二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II #293593136 待售
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ID: 293593136
晶圓大小: 12"
優質的: 2009
PVD System, 12"
Process: Copper
Factory interface
PRI AC Box
SEC AC Box
(3) RF Generator racks
DI Water cooler
(2) Cryo compressors
Process chamber (1 / 4): Encore II Tan
Process chamber (2 / 3): Encore II Cu
Process chamber (C / D): RPC
Process chamber (E / F): Degas
(2) Electric distribution boxes
N2 Gun
ALCATEL ADS1202H Loadlock pump
ALCATEL ADS1202H Xfer pump
ALCATEL ADS1202H Pump (Chamber C)
ALCATEL ADS1202H Pump (Chamber D)
EDWARDS iH1000 Pump (Chamber E)
EDWARDS iH1000 Pump (Chamber F)
Missing parts:
Qty / Part number / Description
(2) / 0242-81627 / NSO Kits, XP Robots with enhanced high temp wrists and shipping case
(4) / 0010-29842 / Robot wrists CIP V2.3
(4) / 0200-06355 / Blades, ceramic open pocket conductive (ACB Blades)
(1) / 0190-25290 / LM Darp edge grip end effector KI (FI Robot blade)
(4) / 0190-41393 / NSK Drivers, 2-axis servo, 110 VAC F47
(1) / 0090-01629 / Assembly, transfer interlock with pos 5, 300mm
(1) / 0090-00353 / MF Buffer interlock PCB
(1) / 0190-24115 / PCB, CDN391R, D-I/O, 300 mm Endura
(2) / 0190-32372 / PCB, CDN396R, A-I/O, 300 mm Endura
(1) / 0190-05682 / PVD Dual chamber degas 208 V heater driver (Degas heat driver)
(1) / 0190-26701 / 0190-43081 / PVD 208 V Dual swill lamp degas driver (Degas lamp driver)
(1) / 0190-54040 / 0190-64793 / On-Board IS Controller (IS2000V Compatible) remote / Pump right mount (IS Controller)
(2) / 0190-54044 / 0190-64799 / Cryo compressors, 208 VAC Mit-ready 300 mm Endura II
(6) / - / Process chambers
(2) / - / RF Generator racks
(1) / - / Xfer Pump
(1) / - / Load lock pump
(4) / - / Chamber pumps (C,D,E,F)
(1) / - / DI Water cooler
(2) / - / Cryo compressors
(1) / - / FI Robot
(1) / - / FI Robot driver
(1) / - / XP Robot driver
(3) / 0190-41014 / LP PCBs
(2) / - / LP EV Modules
2009 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II是專門為各種先進材料的生長而設計的先進熱CVD反應堆。該反應堆能夠執行Epi、MOCVD、Metal Alloy CVD等過程。該反應堆采用自動質量流控制器和熱處理模塊等功能實現,能夠對增長參數進行高級控制。這個強大的熱CVD腔室由不銹鋼和其他耐腐蝕材料制成，以增強耐用性和長期使用。反應堆裝有直徑25厘米的石英船，使用戶能夠最大限度地擴大生長面積。一個14英寸的腔室高度與一個8英寸的晶圓偏移相結合，使得該反應器成為先進沈積過程的最佳選擇。AKT Endura II反應堆還包括全套自動化控制，包括PC控制的過程控制器、先進的2D/3D模式發生器和其他相關組件。此功能有助於確保對化學生長過程的準確控制。該腔室還包括一個內置真空鼓風機，其設計目的是增強工藝靈活性。AMAT Endura II反應堆使用閉環溫度控制和壓力控制等先進控制技術，負載速率高達10W/cm2。反應堆能夠同時處理惰性和反應性氣體。此外,Endura II還設計用於定制過濾系統,以幫助消除有害汙染物和顆粒。這款先進的CVD工具還具有高氣體通量、高均勻性和高吞吐量，讓用戶滿足最苛刻的要求。APPLIED MATERIALS Endura II有一個封閉的設計,占地面積很小,使其能夠輕松適應生產環境。總而言之，AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II是一個先進的反應堆，具有先進的沈積工藝所必需的先進能力。
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