二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II #293616611 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Endura II Reactor是一個先進的高性能制造平臺，設計用於各種應用的光刻、蝕刻和沈積過程。它具有高質量的生產能力和自動化過程控制和現場監控等功能,專為多堆棧大批量生產而設計。AMAT Endura II在吞吐量、設備尺寸和光電性能方面都有顯著進步。它配備了自動化控制模塊，以確保對流程配方開發和可重復性的精確可靠的控制。Advanced Photoresist Processing （APR）模塊允許進行10納米以下的光刻,基板翹曲監視器（SWM）模塊可確保大型晶片的精確溫度和應變控制。此外，增強原位監測系統還提供先進的原位計量數據。APPLIED MATERIALS Endura II是圍繞先進的真空集群工具體系結構構建的。這種配置由最多四個工藝模塊組成，每個模塊都配備了多個腔室，位於一個不需要額外櫥櫃空間的獨立單元中。這樣可以提高吞吐量並降低維護成本,同時仍能提供高質量的結果。系統的主腔室配備了多種等離子體源，包括射頻（RF）源、電子回旋共振（ECR）和感應耦合等離子體（ICP）源，以及納秒脈沖。等離子體源使塗層、蝕刻和清潔過程得以應用，從而能夠創建復雜和先進的結構。Endura II還擁有先進的電源設計,它集成了電容濾波器和線性放大器,可提供高壓和低波紋電源。這允許精確控制離子束能量和劑量速率，以改善不均勻性、重復性和產率。AMAT/APPLICED MATERIALS Endura II是為最大程度地方便用戶而設計的,它具有靈活性套件,允許使用流程配方、基於復雜的流程前和流程後數據的配方,並能夠對配方進行脫機運行的編程。流程數據分析工具集支持徹底的後處理分析,而硬件控制套件則允許特定的配方自定義和材料控制。該系統還具有一個內置配方數據庫,用戶可以在其中存儲和召回配方,以確保不同流程的結果一致。總體而言，AMAT Endura II是一個功能強大且先進的制造平臺，專為苛刻的蝕刻、光刻和沈積工藝而設計。憑借其先進的過程控制、原位監控功能和自動配方控制，它提供了高質量的結果以及改進的設備和模式尺寸。靈活性套件和硬件控制還使用戶能夠優化其流程以提高準確性和吞吐量。