二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II #293624638 待售

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ID: 293624638
晶圓大小: 12"
優質的: 2015
Physical Vapor Deposition (PVD) system, 12" (3) Load ports BROOKS AUTOMATION GF-125C Controller FES (CGA) Process unit SINFONIA FOUP Opener (2) Process chambers Mass Flow Controller (MFC): Ar / 150 SCCM N2 / 200 SCCM Ar / 20 SCCM Unit position / Model / Chemical/Gases 1 and 3 / XLR-W / PAr and PN2 E and F / DMD / PAr Does not include Hard Disk Drive (HDD) Chamber-3 missing Power supplies: 400 / 440 / 480 VAC, 3-Phase 200 / 208 VAC, 3-Phase 2015 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Endura II設備是一種化學氣相沈積(CVD)反應器,用於半導體和介電膜制造行業,提供精確且可重復的工藝結果。AMAT Endura II是一種高性能的解決方案,可靠、經濟高效,可用於多種應用程序。它有幾個特點,包括直觀的觸摸屏用戶界面、用於精確溫度控制的固體加熱器、多種不同氣體輸入選項的已安裝氣體包,以及能夠快速精確地調節溫度、壓力和氣體流量。從氣體供應中抽出的反應物氣體流量由APPLIED MATERIALS Endura II的精確電子質量流量控制器(MFCs)控制。MFCs為整個反應物氣體範圍提供精確校準流量的精確控制,從而能夠精確控制反應堆內部的壓力、溫度和氣體濃度。反應物氣體和廢氣通過一條共同的排氣管線,用RotaFlow排氣和節流閥(RFTV)控制排氣。Endura II利用獨特的熱控系統,由三個隔熱區組成,位於基板支架基板上。其中一個區域,即沈積區,用於處理高達800C的溫度。另外兩個區域用於預調整和冷卻基板支架,然後在沈積過程後重新定位基板。AMAT/APPLICED MATERIALS Endura II單元的主室為高品位不銹鋼,與外界環境完全隔離,免去了真空機在整個過程中保持高純度的需要。為了提供精確的過程控制,AMAT Endura II使用高級控制器和反饋回路,提供對過程參數的實時監控。Endura工具上安裝了多種傳感器,並在整個沈積過程中采集樣品,提供可用於調整工藝條件和保持對工藝嚴格控制的數據。APPLIED MATERIALS Endura II資產還配備了文丘裏洗滌器和催化氧化劑,用於凈化廢氣和消除廢氣前的工藝副產物。這樣可以確保任何過程副產品或汙染物都不會逃脫模型,並且過程環境保持純凈。總體而言,Endura II設備是一種可靠可靠的CVD沈積工具,可提供精確的工藝結果和最大程度的可重復性。它配備了有效的控制和監測系統,並提供了相當程度的靈活性和可調節性,以達到最佳沈積結果。
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