二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II #293830799 待售

ID: 293830799
優質的: 2015
Physical Vapor Deposition (PVD) system (4) PVD Chambers (2) Process chambers, 12", PN: 0060-03608, 0060-03609 Degas chamber Pre clean chamber Carrier, 12" Wafer, 4" - 6" Load port Wafer carrier, 5 x 4" Wafer pocket, 4" Tray (2) SiC Carrier (4", 6 hole) SiC Carriers HON HAI PRECISION, Endura 2, 4" - 6P + 2" -1P SiC Tray EDWARDS, IH600, Dry pump (IH600 MKS), Power supply: 200 - 208 V EDWARDS, IH600 MK5, Pump, Power supply: 200 - 208 VG, 50/60 Hz 2015 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II反應堆是一種高性能、經濟高效的等離子體增強型化學氣相沈積設備,設計用於沈積廣泛的塗層材料。AKT Endura II反應器具有出色的均勻性、附著力和垂直性,是各種應用的理想選擇,包括先進的基板、光電、MEMS、平板顯示器和生物相容性塗層。系統設計的核心是AKT正在申請的智能視圖等離子體室專利。這一特性可以方便地從等離子體室的後部監測沈積過程。在腔室窗口就位的情況下,研究人員可以實時監測整個腔室,從而提高沈積均勻性。Smart View功能還有助於研究人員了解工藝參數對具有挑戰性的應用中的沈積速率的影響。AMAT Endura II反應器采用雙區抗熱加熱裝置,有助於確保均質樣品或基板塗層。其兩區溫控機有助於確保整個工作區域的溫度分布均勻,同時還提供快速、清潔的啟動和冷卻。反應堆裝有反應性探測器,用於監測腔內氣體分布,並提供詳細的工藝信息。此外,利用可調節射頻發生器(ARG)和線性掃描射頻發生器(LSG)功能,APPLIED MATERIALS Endura II等離子體反應器為研究人員提供了比傳統CVD系統更多的優勢。除了其Smart View等離子體腔外,Endura II反應堆還設計了最大限度的等離子體控制。其固定頻率和可調頻率使研究人員有能力減少粒子耗竭,增加等離子體均勻性。AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II還配備了高精度的自動氣體關閉和氣體控制工具,用於監控氣體的混合物,以確保最佳處理。安全方面,AKT Endura II反應堆配備真空互鎖資產、耐腐蝕不銹鋼腔室,設計排放水平低。它配備了先進的應急監測模式,以防止任何濫用,並提供一個安全和有保障的工作區。綜上所述,AMAT Endura II是一種高性能、經濟高效的等離子體增強型化學氣相沈積設備,旨在沈積各種塗層材料。APPLIED MATERIALS Endura II反應器憑借其獨特的Smart View等離子體室、兩區溫度控制系統、反應性探測器、可調線性掃描射頻發生器、氣體關閉和氣體控制裝置以及先進的應急監測機,為各種塗層應用提供了一個顯著的解決方案。
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