二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II #9161793 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II反應堆是為提供微電子生產無與倫比的性能而開發的全場離子植入裝置。AKT Endura II反應器為應變層超晶格（SLS）器件和低壓結場效應晶體管（LVJFET）器件提供卓越性能。該設備的設計目的是為氮和砷的沈積提供最高的離子能量和流體均勻性。AMAT Endura II反應堆的腔室由石墨型陰極和鋁陽極系統組成。這種材料組合提高了熱穩定性，提供了高電阻率，最大限度地減少了濺射。用於離子源的氣體擴散裝置旨在消除其他氣體的汙染，並提供一致、均勻的氣源。此外，陰極加熱機的設計是為了盡量減少溫度波動，確保低能電子的存在，以改善離子的自由化。為了提高通量和延長目標壽命，APPLIED MATERIALS Endura II Reactor具有高溫晶格光學元件，旨在減少電子和粒子成像失真，提高等離子體離子束輪廓的質量。它還有一個自動氣體波動工具，帶有對準頸部，以減少由於燈絲位置的變化而引起的離子束移動。這項資產的設計是為了在目標上保持均勻的光束分布，從而實現植入物面積覆蓋的最佳均勻性。Endura II Reactor在模型中還具有高分辨率的反向散射測量技術，以精確計算劑量，降低裝置故障的風險。AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II反應堆還具有強大的設備控制和監控系統，使技術人員能夠準確跟蹤和控制植入參數。這包括一個用於嚴格控制氣流的旁路系統，以及一個用於精確控制加速電壓的集成高壓控制模塊，以及一個與內部系統協作以精確控制掃描速度和脈沖停止的集成掃描控制模塊。AKT Endura II反應堆是為高性能微電子生產而設計的先進離子植入裝置。該裝置具有堅固的材料和全面的機器控制，以保證離子在目標上的均勻分布，以及用於一致離子束剖面的隔離氣體擴散系統。這使得該工具能夠為制造SLS和LVJFET設備提供卓越的性能。