二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II #9167151 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II促進等離子體增強化學氣相沈積（PECVD）。反應堆專門用於制造用於個人電子器件的半導體芯片，以及其他以能效為重點的薄膜技術。該裝置具有雙感應線圈和Hextron等離子體源，以確保高達5納米/分鐘的高沈積速率。其特點是具有高質量熱壁的大腔室，為汽化反應物提供了最佳的溫度環境。這兩個工藝室提供低壓、低溫的CVD環境。AKT Endura II的特點是具有微波動力控制器的低維護反應堆和比其他型號更低的功耗。控制器監控並保持不同生產率的最佳性能條件。隨著時間的推移，反應堆還提供了生產條件下的均勻性和可重復性。主動表面改性和等離子體色散設備確保均勻均勻的表面塗層，水平檢測器確保在高反射性表面均勻覆蓋。AMAT Endura II反應堆的設計考慮到安全考慮，並設有一個綜合安全系統，限制腔內有毒氣體的數量。此外，反應堆設有陶瓷密封真空室，帶有防止反應性氣體釋放到環境中的電加壓裝置。此外，氣體、真空、壓力和水系統的網絡允許在生產環境中增加安全性。Endura II旨在滿足不同的應用需求,包括基於溫度的優化和現場監控,以及增強對基板均勻性和一致性的控制。該設備安裝和操作簡單,非常適合各種技術,從專業化到更通用的生產過程。其先進的控制機器允許自動調整過程參數，減少了操作員幹預可重復生產的需要。總體而言，APPLIED MATERIALS Endura II是一種高效、經濟高效、可靠和安全的等離子體增強化學氣相沈積反應器。它為利用各種薄膜技術制造小型器件提供了最佳環境，同時確保了高沈積速率和生產條件的均勻性。