二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II #9198255 待售
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ID: 9198255
優質的: 2009
PVD System
Process:
W(DC)
TiN(DC)
Si(RF)
Configuration:
Process tool:
FI
(3) Load ports
Endura main frame
Load lock A/B(LLA/LLB)
Degas chamber(CHE)
Versa Ti/TiN chamber (CH1)
Versa W/WN chamber (CH2)
RF PVD Si chamber (CH4)
Sub tools:
Primary AC box / Rack
Power rack:
Power supply
(3) Controllers
(2) Cryo compressors
Cooling chiller (Heat exchanger)
Dry pump (EBARA, 80WN x2, 20N x1)
Sub tools:
Qty / Make / Model / Part number / Description / CH
(6) / BROOKS / CTI-CRYOGENICS / IS 8F / / Cryopump / Buf/Tr/E/1/2/4
(2) / BROOKS / CTI-CRYOGENICS / IS-1000 / 0190-19395 / Cryocompressor / -
(2) / EBARA / ESR 80WN / / Drypump / System/LL
(1) / EBARA / ESR 20N / / Drypump / CHE
(1) / DAIKIN / - / 0190-25358 (Rev02) / Chiller / -
(1) / ADVANCED ENERGY / Pinnacle / 0190-34646W / Power supply 20kW DC / CH1
(1) / OPTIMA / MKS DCG-200Z / 0190-26736101 / Power supply 10kW DC / CH2
(1) / ENI / GHW-12Z / 0190-25529W / Power supply / CH2
(1) / OPTIMA / MKS DCG-200Z / 0190-32405 / Power supply 5kW DC / CH4
(1) / COMDEL / CB3500 / 0190-38882 / Power supply 3500W RF / CH4
(1) / ASSEMBLY / HY-11 / 0010-25739 / Magnet 300MM DS-TTN / CH1
(1) / - / - / 0010-46871 / Magnet assy, 50M,LRW,300MM PVD / CH2
(1) / ASSEMBLY / Magnet / 0010-48649 / Magnet, 300MM, RF PVD / CH4
Parts list:
Chamber-1 process kit:
Qty / Part number / Description / CH
(1) / 0020-91244 / Shield, 1-piece / Versa TTN
(1) / 0020-93555 / Ring, cover / Versa TTN
(1) / 3690-01847 / SCR CAP / Versa TTN
(1) / 0045-00250 / Matched pair / Versa TTN
(1) / 0021-26896 / Disk shutter / Versa TTN
(1) / 0200-05044 / Ring, deposition / Versa TTN
Chamber-2 process kit:
Qty / Part number / Description / CH
(1) / 0021-64644 / Shield, 1-piece / Versa WWN
(1) / 0200-06870 / Ring, deposition / Versa WWN
(1) / 0021-32761 / Ring, cover / Versa WWN
(1) / 0021-26896 / Disk shutter / Versa WWN
Chamber-4 process kit:
Qty / Part number / Description / CH
(1) / 0021-53619 (Rev03) / Shield, 1-piece / RF Si
(1) / 0200-07582 (Rev05) / Ring, deposition / RF Si
(1) / 0021-54932 (Rev04) / Ring, cover / RF Si
(1) / 0021-26896 (Rev03) / Disk shutter / RF Si
(1) / 0020-07884 (Rev02) / Insulator source shield / RF Si
(1) / 0041-25800 (Rev02) / Ring spacer / RF Si
Target:
Qty / Part number / Description / CH
(1) / D0190-23987003 / END TI16.008-1T-0P / Versa TTN
(1) / NMJ-14040801-HL4 / END-W16411-0309T-DB / Versa WWN
(1) / D0190-3376702 / - / RF Si
Endura spare parts:
Chamber-1 process kit:
Qty / Part number / Description / CH
(1) / 0020-91244 / Shield, 1-piece / Versa TTN
(1) / 0020-93555 / Ring, cover / Versa TTN
(1) / 0021-26896 / Disk shutter / Versa TTN
(1) / 0200-05044 / Ring, deposition / Versa TTN
Chamber-2 process kit:
Qty / Part number / Description / CH
(1) / 0021-64644 / Shield, 1-piece / Versa WWN
(1) / 0200-05896 / Ring, deposition / Versa WWN
(1) / 0021-32761 / Ring, cover / Versa WWN
(1) / 0021-26896 / Disk shutter / Versa WWN
Chamber-4 process kit:
Qty / Part number / Description / CH
(1) / 0021-87836 (Rev2) / Straight shield extended 190mm spacing / RF Si
(1) / 0200-08030 / Insulator source shield / RF Si
(1) / 0021-80310 / Cover ring / RF Si
(1) / 0200-12296 / Depo ring / RF Si
(2) / 0021-26896 / Shutter disk / RF Si
(1) / 0041-29007 / Spacer ring / RF Si
(6) / 3690-01929 / SCR CAP SKT HD / RF Si
(6) / 3690-02288 / SCR CAP SKT HD / RF Si
2009 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II將把定制的復雜反應堆工程提升到一個全新的水平。這個功能廣泛、功能強大的平臺可以處理各種不同的流程,使我們的客戶能夠優化資源並最大限度地提高生產效率。AKT Endura II提供了一個非常適合當今工廠的制造系統,在過程復雜性、質量和安全性方面表現出色。AMAT Endura II擁有多項功能,使其在競爭中脫穎而出。它具有屏蔽室、真空源、真空泵、溫度傳感器、熱電偶、工藝氣線、氣閥、控制器等標準部件。此外,此平臺允許您自定義配置以滿足任何高級流程的獨特需求。再者，Endura II在清潔度、汙染控制、傳熱等方面都符合高行業標準。這種先進的反應器非常適合在半導體、退火、回流和介電塗層過程中的許多應用。在半導體工藝方面，APPLIED MATERIALS Endura II在建立器件結構形成的基本條件方面表現出色。它還擅長設備優化和提高產量.此外,AMAT/APPLICED MATERIALS/AKT Endura II具有廣泛的可加工材料和選項,可幫助您優化基材的均勻性、電氣特性和其他工藝要求。AKT Endura II也擅長退火工藝。它的設計采用了一種高效的方法來創建特殊的加熱剖面,從而在整個機器中提供出色的均勻性。這有助於創建一致的電氣特性和高產率。此外，AMAT Endura II有益於提高回流效果，為爐體提供可靠、平穩的加熱。Endura II還提供卓越的介電塗層功能。它的設計具有高度的精確度和精確度，能夠對基板表面進行精確和可重復的塗層。它還善於為表面擴散和利用創造最佳條件，同時避免過度的薄膜和顆粒汙染。總而言之，APPLIED MATERIALS Endura II是一種特殊的反應堆解決方案，可以處理各種各樣的過程，並提供可靠和可重復的結果。它非常適合當今的先進工藝,能夠提供業界領先的清潔、汙染控制和傳熱。有了所有這些特性，很清楚為什麼AMAT/APPLICED MATERIALS/AKT Endura II是當今許多領先半導體制造商的首選反應堆。
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