二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II #9236847 待售

AKT/AMAT/APPLICED MATERIALS/AKT Endura II是一種雙室、高頻感應耦合等離子體（ICP）反應器，設計用於半導體和光電器件制造材料的蝕刻和沈積。該反應堆由射頻發生器、氣流歧管設備、光學窗口和等離子體室組成。該反應堆被設計為與用於各種蝕刻和沈積過程的其他串聯工藝工具相結合。射頻發電機用於為等離子體供電，並提供高達2000瓦的最大輸出。射頻發生器包括一個高頻感應耦合等離子體系統，設計用於在整個等離子體腔內均勻分配功率，用於蝕刻和沈積過程。發電機還包括一個自動頻率控制單元，允許用戶在連續或沖刺模式下設置射頻發電機的頻率。AKT Endura II包括一個由眾多過程組成的氣流歧管機，以提供廣泛的過程參數。該工具包括質量流控制器、氣體混合歧管和用於樣品處理的接地基板。它還包括等離子體室中高達100毫巴壓力的高空能力。AMAT Endura II的光學窗設計用於提供石英級透射率,以最小程度地減少光引起的加熱和基板汙染。該窗口允許對蝕刻和沈積過程進行高分辨率成像，並塗覆以抵抗蝕刻和沈積過程中使用的侵蝕性化學物質的磨損或腐蝕。Endura II等離子體腔設計為用戶提供廣泛的工藝和溫度範圍。該腔室設計用於支持等離子體選擇性蝕刻能力，包括離子束蝕刻、深反應性離子蝕刻和脈沖等離子體增強原子層沈積技術。它還允許產生氫氣的高密度等離子體具有優越的蝕刻速率和低溫低壓範圍的高通量運行。AMAT/APPLIED MATERIALS Endura II是一種精密、雙室、高頻ICP反應器，設計用於半導體和光電器件制造的廣泛蝕刻和沈積工藝。射頻發生器和氣流歧管資產為處理各種工藝參數提供了條件。石英光學窗口允許對蝕刻沈積過程進行高分辨率成像，而等離子體腔允許在低溫和壓力水平下產生高密度等離子體和氫。AMAT/APPLICED MATERIALS/AKT Endura II模型旨在提供高通量操作、優越的蝕刻速率以及提高工藝應用的產量。