二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II #9293626 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II是一種半導體蝕刻反應器，設計用於制造用於各種電子和光電器件的先進納米級結構。該反應堆在高真空和低壓（真空最高1×10−6 Torr）的條件下運行。它還具有集成的光阻蝕刻和多級沈積工藝，以及先進的控制、先進的安全系統和工藝監控能力。該系統采用三步工藝在晶片上形成納米結構：蝕刻、沈積和後處理。蝕刻通常在等離子體增強化學氣相沈積（PECVD）系統中進行，涉及應用反應物離子和自由基等離子體有選擇地從晶片中去除材料。離子和自由基施加的壓力和功率控制蝕刻的深度和產生的結構的大小和形狀。該裝置包括一個上下射頻室，其中上部室專用於材料的沈積，並包含一個源室，用於將材料沈積到目標晶片上。下部射頻室包含蝕刻室，這是進行蝕刻和清潔操作的地方。反應堆的轉移機制使晶片能夠在腔室之間快速準確地移動。該反應堆還配備了一個超純氣體供應儲存區以及一個溫度控制室，用於將材料分層成精確的層。該蝕刻反應器為用戶提供了多種工藝參數，包括底物溫度和射頻功率。底物溫度可以從室溫到700 °C不等，而射頻功率可以控制在50-600 W的範圍內。總體而言，AKT Endura II是一種可靠且用途廣泛的蝕刻反應堆，為用戶提供了以前所未有的精度創造微觀和納米結構的能力。其內部安全系統，加上高度直觀的操作，使其成為任何半導體制造環境的理想工具。