二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura PVD #151575 待售
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已售出
ID: 151575
晶圓大小: 8"
HTHU chamber, 8"
Helium leak test with RGA Tool
Water Cool Standard Chamber Body
8" HTHU Heater
12.9" Source Assy
AL Magnet (0010-20225)
Cryo Elbow Kit
Water Cooled Baffle Kit
Basic Process Shield Installation Kit
3 Phase Low Vibration Fast Regen Cryo Pump
HTHU Motorized Kit
HTHU Wafer Lift Kit
STD Body Chamber Harness Assy
Chamber View Port (2.75")
Water Cooled Baffle Plumbing Kit
12.9" Source Adapter Kit.
AMAT/APPLIED MATERIALS Endura PVD反應器是一種最先進的物理氣相沈積(PVD)設備,旨在在各種沈積應用中提供高質量的結果。AMAT Endura PVD系統是一種單批工具,結合了一個腔室、射頻源和坩堝,提供快速、可重復、熱穩定的層層沈積。APPLICED MATERIALS Endura PVD單元為高性能層沈積提供了一套有利的功能,包括動態機器控制、等離子體功率調制、集成過程控制以及前、後過程選項。Endura PVD腔室是一種不銹鋼結構,具有多件式閉合體積環境和集成的石墨敏感器板。射頻源包括先進的寬帶匹配網絡、最先進的可調頻電源和電感耦合電感,提供可靠、可重復、一致的功率傳遞。Cruceble設計用於均勻的熱分布和高效的傳熱,即使在較高的溫度下也能在過程中提供卓越的熱穩定性。AMAT/APPLIED MATERIALS Endura PVD工具具有完全用戶可編程的數字控制器、完整的過程控制和內置溫度傳感器。該資產旨在精確設置工藝參數以達到目標沈積層,霧化器使氣流霧化並輸送具有高稠度的汽化反應物材料,安裝熱像儀以監測基板的加熱和冷卻。AMAT Endura PVD模型具有多種前體工藝,包括脫氣、清洗、清潔和熱身。此外,設備還采用冷卻、停滯維護和焊劑凍結等工藝後選項。這些特性確保整個周期都能達到過程的臨界溫度參數。APPLICED MATERIALS ENDURA PVD系統的設計旨在準確、精確地提供所需的層沈積特性,以便在包括半導體、顯示器和磁盤驅動器行業在內的各種應用專業領域中實現高性能的結果,用於先進晶圓和玻璃層。該設備配置性強,用戶友好,是研究和制造應用程序的理想選擇。
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