二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura SL #293722942 待售
網址複製成功！
單擊可縮放
ID: 293722942
晶圓大小: 12"
優質的: 2001
W-CVD System, 12"
OHT WIP Delivery
(2) Load ports
Load port type: (25) Wafer FOUPs
Operator access switch
E84 Sensors and cables
KEYENCE with BCR
(4) Colours configurable light tower
(2) Heat Exchangers
NESLAB Chiller / Steelhead-1
UNISEM UN2002APG Gas scrubber
Chamber position 1, 4, C and D: Tungsten
Pumps:
IPUP Type: ALCATEL A100L
Position 1, 4, C, D: EBARA A150 Type
2001 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Endura SL反應器是一種高性能、高質量的化學氣相沈積（CVD）設備。該系統設計用於半導體器件制造行業領先的大氣壓力、單晶圓CVD工藝。AMAT Endura SL Reactor提供卓越的保形沈積，具有出色的薄膜均勻性，以實現最新的3D IC、LED和MEMS。APPLICED MATERIALS Endura SL反應堆的核心是其優越的氣體控制。它采用創新設計,能耗更低,吞吐量更高,從而提高了生產效率和效率。Endura SL Reactor提供動態流量控制，具有極好的短期均勻性，使沈積一致的薄膜成為可能。其CVD腔室設計為多區可控，能夠在一個腔室內優化多種工藝配方。它具有創新的負載鎖定單元設計，允許精確的低負載晶片處理。AMAT/APPLIED MATERIALS Endura SL反應堆還提供從低溫沈積到900 °C的全範圍溫度控制。這種溫度靈活性允許廣泛的CVD過程,包括PECVD、PEALD和ALD。反應堆還為快速檢測和糾正過程控制問題提供了原地和異地診斷。它的軟件套件提供了對整個CVD過程的自動控制,以實現更好的控制和可重復性。此外，AMAT Endura SL反應堆通過獨特的、集成的閉環控制架構，擁有卓越的過程控制穩定性。它可以長期保持過程條件，如溫度、濕度、流量和壓力，而不會漂移。這樣可以確保CVD過程始終處於精確控制之下。APPLICED MATERIALS Endura SL Reactor也提供了廣泛的自動化安全特性。這些措施確保流程安全運行,對人員、設備和環境的風險最小。自動安全協議監視壓力、流量、溫度等參數,並且在超出預先設置的閾值時可以關閉流程。總體而言，Endura SL Reactor是一款高性能的CVD機器，旨在滿足半導體器件制造最嚴格的要求。憑借其卓越的氣體控制、全方位的溫度控制和自動化的安全功能，該工具提供了市場上最高質量的沈積和工藝性能。它是為下一代微電子設備尋找可靠、可重復的CVD工藝的公司的理想選擇。
還沒有評論