二手 AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #117307 待售

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ID: 117307
晶圓大小: 8"
優質的: 2001
Barrier / seed, 8" wafers (SNNF) SMIF CH A – Pass through CH B – Cool Down CH C – Pre-Clean IIe ceramic CH D – Pre-Clean IIe ceramic CH E – Orient / Degas CH F – Orient / Degas CH 1 – PVD SIP Ta Wide Body with shutter 2x Pinnacle Comdel 600S SLT ESC Backside Ar CH 4 – PVD SIP Cu Wide Body with shutter 2x Pinnacle Comdel 600S SZB ESC Backside Ar Active Thermal Science Chiller Heat Exchanger - Neslab Wide Body load locks Transfer chamber robot – VHP Buffer chamber robot – HP+ Synergy V452 SBC Enhanced CTI Fast regen cryo pumps CTI 9600 cryo compressors 2001 vintage.
AMAT/APPLICED MATERIALS ENDURA Reactor(又稱AMAT ENDURA反應堆)是為半導體工業設計的大型工業工藝設備。該反應器用於化學氣相沈積(CVD)工藝,通常用於在基板上沈積矽、金剛石狀碳(DLC)和氮化物層的薄膜層。APPLICED MATERIALS ENDURA Reactor是一種高溫高壓CVD反應器,能夠監測和控制薄膜層一致可靠沈積所需的工藝參數。它裝有一個加熱室和一個加熱敏感器,與各種氣體和反應物材料兼容。反應堆還具有一系列先進的工藝控制,包括精確的沈積溫度控制、壓力感應和調節以及流量控制。ENDURA反應堆在半導體工業中被廣泛用於制造電子電路、微結構、MEMS元件等應用。為快速高效地沈積層狀材料而設計,具有極好的溫度均勻性和可重復性,可實現高精度和可重復性沈積。AMAT/APPLICED MATERIALS ENDURA Reactor還設計用於減少工藝時間、最大限度地減少誤差、最大限度地提高吞吐量。反應器由兩個主要組件:工藝室和控制器.該工藝室由石英、鋁或不銹鋼制成,並裝有加熱元件、敏感器以及所有必要的傳感器和閥門。也是沈積過程實際發生的區域。控制器是一個先進的計算機化系統,包括調節反應堆和優化過程參數所必需的軟件和硬件。AMAT ENDURA Reactor為工藝工程師和操作員提供對整個沈積過程的完全控制。它可以與廣泛的材料一起使用,包括二氧化矽、氮化物和類似金剛石的碳。反應堆還具有高度均勻的溫度分布、精確的壓力控制和極低的雜質水平。除了工藝控制能力外,APPLIED MATERIALS ENDURA Reactor的設計還提供快速和一致的沈積速率。它還具有耐磨部件,並具有降低噪音和顆粒物水平的特點,以便更清潔的沈積環境。總體而言,ENDURA反應堆是為半導體工業設計的先進工業工藝設備。該反應器用於CVD工藝,可用於在基板上沈積矽、金剛石狀碳和氮化物的薄膜層。AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA為更清潔的沈積環境提供精確的過程控制和快速沈積速率以及低噪聲和微粒水平。
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