二手 AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #177672 待售

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ID: 177672
晶圓大小: 6"
優質的: 1995
Sputtering system, 6" 1. ALCu(Clamp) 2. Wide-Ti(A101) 3. Wide-Ti(A101) 4. STD-AL-Si-Cu(Clamp) 5. - A. Pass B. Cool C. PC2 D. PC2 E. ORIENTER-DEGAS F. ORIENTER-DEGAS BUFFER: HP XFER: HP LL: NARROW MAGNET: DURA & G12 Pumps: EBARA AA40WN, AA40W, AA70W Missing: SBC FDD 24V Power supply Currently installed and shut down 1994 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA Reactor是為半導體工業中的材料沈積過程而設計的高品質化學氣相沈積(CVD)設備。該反應堆提供卓越的性能和卓越的工程支持,在一個經濟高效的包。AMAT ENDURA提供了真空處理環境的精確控制以及工藝、材料和沈積速率的最佳選擇。APPLICED MATERIALS ENDURA利用多孔流出器的氣體輸送系統、精確的壓力控制閥獲得精確的壓力調節,以及均勻的氣體分配板獲得均勻的氣體分配。它還擁有一個多孔噴射器、導流板、閥門控制的熱源,以及一個獨特的三源分配裝置,以獲得均勻的沈積結果。ENDURA能夠同時運行熱和等離子體增強的CVD工藝,它能夠容納多種材料進行沈積,因此非常適合各種應用。每個工藝都可以進行定制,以優化沈積速率、均勻性和選擇性。此外,較大的過程窗口和對過程參數的精確控制使用戶能夠準確地應用其特定的過程設計。AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA CVD反應堆在其115mm x 265mm的大底物容量上提供了卓越的熱穩定性和熱均勻性。它還采用先進的流量控制來實現最均勻的流量模式和均勻的沈積,以提高產量。機器的智能控制能力使用戶能夠準確快速地調節過程流體和溫度,其自動化過程控制最大限度地減少了用戶幹預,節省了時間。AMAT ENDURA CVD反應堆的設計易於使用、安全可靠。它提供直觀的10英寸觸摸屏顯示屏和高級圖形用戶界面(GUI),允許用戶快速驗證流程設置並根據需要快速調整參數。它還帶有先進的安全功能,如發生錯誤時自動關閉,並且該工具配有內置警報指示器,在發生任何錯誤時提供清晰準確的反饋。總之,應用材料ENDURA CVD反應器是半導體工業中任何材料沈積過程任務的理想解決方案。它提供卓越的性能、出色的工程支持和可靠的安全功能,經濟實惠。ENDURA通過其對過程環境和自動化功能的精確控制,為用戶提供了一種高效且經濟高效的資產,以滿足其所有沈積過程需求。
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