二手 AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9115932 待售
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ID: 9115932
晶圓大小: 8"
PCVD System, 8"
Front panel type: Norrow
SMIF: No
SBC Controller: V440
Ion gauges: Nude
Buffer robot: HP
Transfer robot: HP
Blade material: STD
Load lock type: Narrow body
Index handler type: Manual
Loadlock vents type: STD
PVD Chamber details:
Chamber #1
Body type: WIDE
Source type: G12
Power supply: MDX-10K M / MDX-10K S
Heater: STD 4 Finger
Dual TC Amp kit
Pedestal
Target: AL Blank
Gate V/V Type: 2 Position
Short Detect H/W: 0010-20768
Chamber #2
Body type: WIDE
Source type: G12
Power supply: MDX-10K M / MDX-10K S
Heater: STD 4 Finger
Dual TC Amp kit
Pedestal
Target: AL Blank
Gate V/V Type: 2 Position
Short Detect H/W: 0010-20768
Chamber #3
Body type: WIDE
Source type: 12.9 G3
Power supply: MDX-10K M / MDX-10K S
Heater: STD 4 Finger
Dual TC Amp kit
Pedestal
Target: AL Blank
Gate V/V Type: 2 Position
Short Detect H/W: 0010-21940
MFC:
Chamber #1
MFC Type: AERE
Gas: AR
Size: 100, 50
Chamber #2
MFC Type: STEC4400
Gas: N2
Size: 100, 200
Chamber #3
MFC Type: STEC
Gas: N2
Size: 200
Chamber #3
MFC Type: AERA
Gas: N2
Size: 50
Chamber D
MFC Type: SEC-V100
Gas: N2
Size: 200
NESLAB II Chiller
(2) Cyro 9600 Compressors
1998 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA是一種化學氣相沈積（CVD）反應器，設計用於沈積專門用於半導體應用的薄保形塗層。該設備還可用於其他應用，如空心陰極磁控管濺射（HCMS）和物理氣相沈積（PVD）。AMAT ENDURA是一種全尺寸的CVD反應器，使用等離子體增強的CVD（PE-CVD）工藝。與傳統的批量CVD工藝相比，PE-CVD使沈積物具有明顯更薄、更保形的塗層。該系統具有水平反應堆室，允許最大吞吐量與有限的表面積。此外，腔室沖洗和排氣單元和大型加工窗口可用於各種前體氣體。APPLICED MATERIALS ENDURA的端點檢測機設計為在塗層厚度讀數上提供高度可靠的精度。專門為ENDURA反應堆設計的自動化工藝控制器提供精確的工藝控制，使用戶可以確保每種基板均勻塗層。AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA反應堆可以進一步配置各種組件，如氣體輸送系統、水冷表面和自動裝載系統，為特定的工藝應用定制工具。例如，其他常見組件包括：載波晶片傳輸和處理資產、真空模型和自動晶片映射設備。AMAT提供全面的服務、預防性維護計劃、備件和工藝培訓，以確保適當的系統運行和優化。除了這些服務之外，他們的高級軟件和硬件升級可以幫助顯著延長設備的使用壽命。AMAT ENDURA反應堆是半導體工業大批量生產以及研發應用的理想選擇。它操作簡單，為薄膜塗層的受控沈積提供精確、可靠、準確的性能。
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