二手 AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9126392 待售

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ID: 9126392
晶圓大小: 8"
PVD, 8", L/L: Narrow Buffer/Xfter robot: HP Chamber A: pass Chamber B: cool Chamber E: orienter-degas Chamber F: orienter-degas Ch-1: AlCu Ch-2: AlCu Ch-3: AlCu Ch-4: AlCu AC line voltage: 480V delta AC Full load current: 250A AC Frequency: 60Hz
AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA是一種專為高容量和高通量半導體蝕刻和沈積工藝而設計的高功率化學反應器技術。這種多用途的設備提供特殊的腔室設計和過程控制,以支持生產復雜的部件。該系統非常適合各種先進的材料沈積和蝕刻需要,並提供了一套靈活的工具。AMAT ENDURA裝置主要用於化學氣相沈積和蝕刻工藝.利用微波和射頻(RF)將CVD腔室內容物保持在等離子體狀態。微波能量用於產生前體和自由基,然後可以用來將特定的目標材料沈積在晶圓或基板上。RF能量用於維持均勻的等離子體和驅動反應速率。這確保了均勻的薄膜堆積和較高的沈積速率。反應堆包括中壓CVD機、高壓CVD工具、MFC兼容處理資產、動態微波排氣模型、有源氣體混合模塊、微機電系統(MEMS)處理室等幾個強大的處理選項。多工藝設備旨在擴大現有材料沈積和蝕刻工藝的範圍。該系統還提供卓越的控制和準確性,允許用戶根據需要輕松調整流程參數。APPLICED MATERIALS ENDURA單元利用了幾種先進的技術來達到精確的效果。它配備了一個過程監測機,使用來自每個腔室的反饋回路,以確保整個工具操作正確。資產還包括質量流量控制(MFC)模型,以確保精確的物質流向腔室和整個設備的精確氣體流動。反應堆還具有整體溫度控制功能,可方便調整以適應不同的應用。此外,掃描儀和執行器完全集成到系統中進行精確的後期處理。這樣可以實現更好的控制和更準確的結果。總體而言,ENDURA裝置是精密先進材料蝕刻沈積工藝的理想選擇。它提供了出色的工藝控制,可以加工的材料種類繁多,操作可靠。該機的多功能性和精確的溫度控制使其成為制造復雜部件的強大工具。
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