二手 AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9157987 待售

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ID: 9157987
PVD System Aluminum deposition Cold aluminum with Ti-TiN Mainframe: 150mm with tiltout cassettes Buffer: HP Robot Transfer: HP Robot Chamber C: Empty Chamber D: Empty Chamber 1: Clamp standard PVD heater, Aluminum 350 C Magnet part: 0010-20224 Chamber 2: Clamp standard PVD heater, Aluminum 350 C Magnet part: 0010-20224 Chamber 3: Clamp standard PVD heater, Titanium 100 C Magnet part: 0010-20221 Chamber 4: TiN 101 pedestal Magnet part: 0010-20223 or 0040-20129.
AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA是一種化學氣相沈積(CVD)反應器,通常用於材料制造過程。該設備的工作原理是在高達1050°C的溫度下分解氣態物質,通常使用六甲基二矽烷(HMDS)作為前體。分解過程產生一個由矽、氧和碳元素組成的氣相,這些氣相粒子隨後與目標基板相互作用,從而在基板上形成材料薄膜。對AMAT ENDURA進行了優化,使薄膜沈積具有最大的柔韌性和均勻的質量。該系統由幾個單元處理部分組成,如Prime Station、Interlocks和基板處理控制器。Prime Station是反應堆的中央控制單元,操作員在其中設置沈積過程的參數,包括反應物種類、加熱器功率、溫度、腔室壓力和底物溫度。它還監視進程參數,並在任何參數從其設置中脫落時具有一組警告指示器。Interlocks是用來監測反應堆狀況和基板工藝控制器的電子控制裝置。Interlocks通過溫度、壓力和氣流的測量以及底物的運動來控制反應室環境。基板工藝控制器負責通過控制基板的角運動以及反應物氣體的流速和組成來保持基板溫度和均勻塗層在基板上的生長。該機還具有廣泛的輔助組件集合,用於確保可靠的工藝操作,如源管、樣品進紙器、波紋管和氣泡。源管為反應室提供氣相化學前體,而樣品送料器則協助將固體物質引入反應室。波紋管是隔離器和溫度測量裝置的組合,可以對反應室進行精確的溫度控制。氣泡器還有助於將反應物氣體引入反應堆。APPLICED MATERIALS ENDURA非常高效,因為它旨在實現對薄膜沈積過程的精確控制,減少加工所需的基板數量。此外,它適用於廣泛的應用,從一般的半導體加工到光伏和光電器件的制造。它的可靠性和靈活性使得它成為任何類型的薄膜沈積工藝的絕佳選擇。
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