二手 AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9174930 待售
看起來這件物品已經賣了。檢查下面的類似產品或與我們聯系,我們經驗豐富的團隊將為您找到它。
單擊可縮放
![Loading](/img/loader.gif)
已售出
ID: 9174930
晶圓大小: 12"
優質的: 2010
PVD System, 12"
TiCL4 ALD Processing chamber
Gases:
L1: Ar (HP)
L2: C2H4 (Ethane)
L3: H2
L4: He
L5: N2 (HP)
L6: N2
L7: N2
L8: NH3
L9: SiH4 (Silane)
Missing parts:
Turbo molecular pump
Vacuum fore-line pieces
Heated gas delivery lines (Removed as part of decon)
Throttle valve
Gate valve
Process kit (Interior chamber shielding)
Chamber to M/F, I/O Cabling
2010 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA是一種革命性的等離子體蝕刻反應器,旨在實現半導體和其他先進技術制造過程中更快、更精確、更一致的等離子體蝕刻。這座新的蝕刻反應堆包括獨特而強大的特性和能力組合,可以提高吞吐量和提高產量。該反應堆采用單室設計,允許在同一設備中進行多種不同的工藝,並具有靈活性,能夠對多種材料進行高質量蝕刻,包括聚矽、聚酰亞胺、聚矽酸鹽、聚氧化物和氮化物。該系統高效可靠,具有一組高級功能,可提供卓越的性能,同時減少維護需求。它包含一個獨立的閥門前線,使用戶能夠保持一致和可重復的預設,並提供更好的工藝參數控制。此外,AMAT ENDURA等離子體蝕刻反應器在氣體化學、射頻功率、壓力和批量等多種不同的化學和工藝變化條件下也能很好地發揮作用。APPLIED MATERIALS ENDURA還采用了現有自動端點檢測(AED)單元的改進版本,旨在讓客戶能夠一致、更精確地監控和控制蝕刻過程。AED利用特征識別算法,可以實時唯一地識別和分類流程端點。這確保了可實現的最高蝕刻速率,降低了復雜性,降低了下遊汙染的風險。該機器還為用戶提供了許多有用的過程保護功能,例如遠程等離子體源關閉、故障條件的自動配方切換以及監視過程的多個選項。這些安全功能共同確保了產品質量的優越和從工具到資產的一致性能。ENDURA等離子體蝕刻反應器是半導體制造先進工藝的一個完整而有力的解決方案,提供高質量的蝕刻效果,提高產量和提高效率。此模型的特點和功能使其成為任何蝕刻應用程序的理想選擇,提供可靠且可重復的性能,降低風險並高度控制過程。
還沒有評論