二手 AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9193023 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA
ID: 9193023
Chamber SIP Encore type source assembly and magnet SIP Encore adapter Widebody with shutter assembly 3 Phase enhanced cryo pump E-Chuck assembly Pulsed DC (5 kW).
AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA PVD Reactor是一種先進的半導體級物理氣相沈積(PVD)系統,設計用於生產當今最難制造的器件。它提供了均勻的薄膜沈積,不需要頻繁的人工幹預,並提供了廣泛的工藝能力。AMAT ENDURA PVD反應堆具有等離子體增強的感應耦合源和獨特的工藝室設計,能夠對包括銅和其他金屬薄膜在內的多種材料進行卓越的總厚度控制、腔室和目標均勻性以及形狀控制。APPLIED MATERIALS ENDURA Reactor是一種單卸載工具,可以處理批量和集群配置中的各種尺寸和封裝。它設計為與硬件和軟件完全自動化,以便於工廠自動化工具的集成。這種自動化能力允許更高的質量和更有效的生產產量。ENDURA PVD Reactor提供出色的溫度均勻性、腔室絕緣和目標到晶圓距離,以提供卓越的粒子控制和工藝一致性。其庫存材料能力可提高生產率和提高質量,而其預測性維護功能可促進主動維護和簡化整個系統操作。AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA Reactor還具有模塊化運行室設計、低維護部件和直觀界面。AMAT ENDURA Reactor憑借其多種產品選項提供了極大的可擴展性和靈活性,為最終用戶提供了優化其特定工藝的能力。該反應堆還具有廣泛的工藝能力,如:多層沈積、高縱橫膜比、多步金屬化,以及改進的隔離而無需過程誘導的蝕刻。所有這些特性在半導體市場非常重要,在半導體市場上,復雜的器件必須以極高的精度和精確度制造。總體而言,APPLIED MATERIALS ENDURA PVD Reactor是一種可靠、精確且經濟高效的工具,適用於最具挑戰性的要求最高的半導體制造環境。它具有卓越的性能,具有出色的均勻沈積和出色的形狀控制,是提高生產效率和縮短循環時間的理想選擇。ENDURA PVD反應堆是在當今最復雜、最具挑戰性的微電子器件生產中統一控制制造的寶貴工具。
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