二手 AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9198505 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA CVD Reactor是一種先進的去原位化學氣相沈積（CVD）設備，主要用於制造大規模、高性能的半導體器件。AMAT ENDURA反應堆能夠沈積各種材料，包括但不限於；單晶或多晶矽（Si）、的（Ge）、碳納米管（CNTs）等導電納米合金。與較舊的平臺技術相比，應用材料ENDURA反應堆在成本和能力方面都取得了重大進展。ENDURA CVD系統由三室垂直熱墻設計組成。第一個腔室是負載鎖,它可以更快、更安全地交換基材.中間室是材料沈積、沈積速率控制的加工室。最後一個密室是清除任何剩余材料單位的凈化室。AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA CVD反應堆效率高，擁有成本低。AMAT ENDURA反應器能夠直接沈積到非常大的基板上，達到200 mm晶圓，具有高速沈積能力。這樣可以實現較高的吞吐量,並在較大批次的基材上獲得較高的產量。此外,APPLICED MATERIALS ENDURA反應器采用先進的工具和資源設計,可以更好地控制機器的行為,從而提高過程的可重復性和正常運行時間。ENDURA CVD反應器提供直接晶片溫度控制，是控制薄膜沈積均勻性的附加優勢。它還具有多區域循環加工能力，帶有板載基板加熱工具和氣體混合模塊，可以更好地在整個基板上進行均勻性控制。AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA CVD資產還配備了Auto-Gap功能,該功能可自動設置基板到淋浴頭的距離,以實現一致的沈積速率和均勻性。AMAT ENDURA CVD模型可用於各種行業的一系列應用，如薄膜光學材料的生產、薄膜金屬化層和半導體器件的制造。這些功能將使可再生能源、半導體、電子和航空航天工業等廣泛行業受益。綜上所述，APPLIED MATERIALS ENDURA CVD反應堆是一種革命性的異地化學氣相沈積設備，旨在提供出色的沈積速率、均勻性和低擁有成本。ENDURA為用戶提供了直接晶圓溫度控制、多區域循環過程功能和自動間隙功能等先進工具,使其成為開發大型高性能半導體器件的理想平臺。