二手 AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9198546 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA是一種化學氣相沈積（CVD）反應器。它能夠生產高質量、低溫的多種材料薄膜，如二氧化矽、氮化矽、鎢等。它可以在廣泛的溫度範圍內沈積材料，使其適合半導體、LED和可再生能源行業的多種應用。AMAT ENDURA反應堆呈圓柱形，圍繞組件的中央排列而建。它由一個可以在水平位置和垂直位置之間切換的工藝室、一個能夠準確定位磁感器的機械升降機組件、一個射頻發生器和匹配網絡、一個工藝氣體分配設備以及一個工藝控制系統組成。APPLICED MATERIALS ENDURA CVD反應器的工藝室被用於操縱材料沈積的環境。它利用工藝氣體、熱量和壓力的受控氣氛來合成所需的薄膜。腔壁由幹壓燒結的碳化矽制成，具有高溫能力，耐侵蝕。腔室的角落裝有可拆卸的石英襯砌窗，以便進行原位光學分析。采用射頻發生器和匹配網絡為反應室提供電源，可調整至所需頻率。機械提升組件提供了磁感器的精確垂直運動，而磁感器是材料沈積的基礎。它使用氣動執行器，可以將感應器升降到所需位置。感光器本身由石墨制成，加熱到所需溫度。也用來釋放電荷。工藝氣體分配單元確保工藝氣體以適當的速率和壓力流向工藝室。它由一個噴射器、閥門和一個歧管組成。噴射器供應指定的工藝氣體，閥門調節各自的流量。該工藝氣體歧管由一系列板和管組成，這些板和管將氣體從噴射器流向工藝室。ENDURA CVD反應堆的過程控制機允許用戶調整與反應運行相關的不同參數，如過程氣體流量、溫度、壓力和施加電壓。它還允許用戶監控工藝室內的溫度和壓力以及傳遞給工具的電力。AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA CVD反應器是一種高效可靠的工具，可用於制造各種對沈積過程進行精確控制的碳基薄膜。它的設計註重安全性和高效的處理,使其成為任何敏感應用程序的理想選擇。